[实用新型]一种加热均匀的带有热保护装置的水浴锅

说明书

本实用新型公开了一种加热均匀的带有热保护装置的水浴锅，包括水浴锅本体，上固定架和料盘，该水浴锅本体上开设有水浴槽，该水浴槽内滑动安装有上固定架，该上固定架上端面开设有定位槽，该定位槽内滑动安装有料盘，该水浴槽的下端面固定安装有搅拌轮，该搅拌轮下端固定连接有旋转电机，该旋转电机固定安装在水域锅本体内，该水浴槽的底部与侧壁上均固定安装有水温检测头，该水温检测头固定连接有控制台，该控制台内设有热保护开关，本实用新型通过料盘将试管固定，并将带有试管的料盘放置到上固定架上，然后由上固定架送入到水浴槽内，通过搅拌轮将水浴槽内的水进行搅动实现水浴槽内的水加热更加均匀。

技术领域

本实用新型涉及一种水浴锅领域，特别涉及一种加热均匀的带有热保护装置的水浴锅。

背景技术

水浴锅主要用于实验室中蒸馏，干燥，浓缩，及温渍化学药品或生物制品，也可用于恒温加热和其它温度试验，是生物、遗传、病毒、水产、环保、医药、卫生、化验室、分析室、教育科研的必备工具，现有的水域锅均是直接将水浴锅内的水进行直接加热，如此会导致水浴锅内底部温度较高，而水浴锅上端水温与水浴锅底部的水温温差较大，导致使用时出现加热不均匀，对工作过程产生影响，且在水域锅使用前需要对水浴锅内先进行注水，而由于置料板上的试管数量不定，如果试管数量全满后，水域槽内的水会溢出，对工作环境造成影响，如果在水浴槽内的水量注入不足时，可能会出现水浴槽内的水无法完全将试管下端完全覆盖，出现受热不均匀的情况，如此每次都需要在水域槽内注入足量的水，如此可能导致水溢出的情况。

实用新型内容

本实用新型的主要目的在于提供了一种加热均匀的带有热保护装置的水浴锅，可以通过搅拌轮将水浴槽内的水进行搅拌，实现降低水温的上下水温差，并通过溢水口将水浴槽内溢出的水导出，且通过调整上固定架的高度使料盘上的试管底部在入水时，水浴槽内的水溢出时不会出现水烫伤手的情况。

为实现上述目的，本实用新型采取的技术方案为：

一种加热均匀的带有热保护装置的水浴锅，包括水浴锅本体，上固定架和料盘，该水浴锅本体上开设有水浴槽，该水浴槽内滑动安装有上固定架，该上固定架上端面开设有定位槽，该定位槽内滑动安装有料盘，该水浴槽的下端面固定安装有搅拌轮，该搅拌轮下端固定连接有旋转电机，该旋转电机固定安装在水域锅本体内，该水浴槽的底部与侧壁上均固定安装有水温检测头，该水温检测头固定连接有控制台，该控制台内设有热保护开关。

进一步的，所述上固定架包括上卡板和过水槽，该过水槽上端固定安装有卡板，该卡板两侧固定连接有气压弹簧杆，该气压弹簧杆固定安装在水浴锅本体侧端面。

进一步的，所述水浴锅本体上端面还开设有溢水口，该溢水口设于水浴槽的两侧，该水浴锅本体上开设有出水口，该溢水口下端的侧端面与出水口固定连接。

进一步的，所述水浴槽的下端面开设有下水口，该下水口的下端与出水口固定连接。

进一步的，所述料盘包括置料板和支撑座，该置料板上开设有若干置料孔，该置料板两侧固定安装有支撑座，该支撑座上固定设有把手。

进一步的，所述水浴槽与溢水口之间的水浴锅本体的高度低于水浴锅本体远离溢水口的两侧上端面高度。

更进一步的，所述搅拌轮的转速不高于每分钟六十转。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果为：

本实用新型可以通过搅拌轮将水浴槽内的水进行搅拌，实现降低水温的上下水温差，并通过溢水口将水浴槽内溢出的水导出，且通过调整上固定架的高度使料盘上的试管底部在入水时，水浴槽内的水溢出时不会出现水烫伤手的情况。

附图说明

图1为本实用新型的立体图；

图2为本实用新型的水浴锅本体俯视图；

图3为本实用新型的立体组装图。