[实用新型]一种基材上料装置

说明书

本申请涉及一种基材上料装置，机体上设置有输送机构，输送机构包括传送带，传送带的传送末端设置有上料机构，上料机构包括推料部件、升降排列部件以及整料部件，推料部件包括推料架、推料板以及推料气缸，推料气缸的活塞杆水平朝向传送带设置，推料气缸的活塞杆端部固定连接推料板，升降排列部件包括升降气缸以及工件导板，升降气缸与推料架固定且活塞杆竖直，升降气缸的活塞杆与工件导板固定以带动工件导板竖直升降，工件导板位于传送带正上方，工件导板正对传送带的表面开设有多个平行于传送带传送方向的排列槽，整料部件包括与机体固定的托架以及放置于托架上方的托板，托板放置有料盘。本申请具有缩小码放基材过程中出现的间隙的效果。

技术领域

本申请涉及码料设备的领域，尤其是涉及一种基材上料装置。

背景技术

钕铁硼作为稀土永磁材料，具有极高的磁能积和矫顽力，同时高能量密度的优点使钕铁硼永磁材料在现代工业和电子技术中获得了广泛应用，从而使仪器仪表、电声电机、磁选磁化等设备的小型化、轻量化、薄型化成为可能。

随着科技的发展，为了提高钕铁硼的性能，重稀土晶界扩渗工艺应运而生，重稀土晶界扩渗工艺是指通过扩散渗透工艺使重稀土元素只存在于钕铁硼的晶界而不进入晶内，以减少钕铁硼原子间的磁耦合，从而可显著提高钕铁硼的矫顽力和温度的稳定性，进而提升磁性能。现代工业生产中常用的重稀土晶界扩散渗透工艺主要包括蒸镀法、表面涂覆法以及PVD镀膜法。

PVD镀膜法是指在真空或低气压气体放电条件下，固态的涂层物质经过“蒸发或溅射”后，在零件表面生成与基材性能完全不同的新的固体物质涂层；应用PVD镀膜法进行镀膜时，首先需要对基材进行清洗，清洗后的基材通过人工搬运至料盘位置处，并在对应的料盘上单层码放，以便对洁净的基材进行镀膜处理。

针对上述中的相关技术，发明人认为人工码放基材，易存在基材间出现间隙、导致镀膜材料浪费的缺陷。

实用新型内容

为了缩小码放基材过程中出现的间隙，本申请提供一种基材上料装置。

本申请提供的一种基材上料装置采用如下的技术方案：

一种基材上料装置，包括机体，机体上设置有用于水平输送基材的输送机构，输送机构包括水平设置的传送带，传送带的传送末端设置有上料机构，上料机构包括推料部件、升降排列部件以及整料部件，推料部件包括与机体固定的推料架、与推料架固定的推料板以及与推料板固定连接的推料气缸，推料气缸的活塞杆水平朝向传送带设置，且垂直于传送带的传送方向，推料气缸的活塞杆端部固定连接有推料板，升降排列部件包括升降气缸以及工件导板，升降气缸与推料架固定且活塞杆竖直，升降气缸的活塞杆与工件导板固定以带动工件导板竖直升降，工件导板位于传送带正上方，工件导板正对传送带的表面开设有多个平行于传送带传送方向的排列槽，整料部件位于传送带背离推料部件的一侧，整料部件包括与机体固定的托架以及放置于托架上方的托板，托板用于放置料盘，料盘的上表面与传送带上表面平齐。

通过采用上述技术方案，基材从输送带上输送至工件导板内，并且顺利进入排列槽内，随着传送带的不断运转，基材能够在排列槽内部收尾抵接，实现基材在传送带的传送方向上的紧密排列，排列槽内填充满基材之后，升降气缸带动工件导板上升，此时输送驱动件停止运转，使得基材从排列槽内露出，接着推料气缸的活塞杆带动推料板运动，推料板将基材推动至料盘上，推动过程中基材在垂直于传送带的传送方向上也能够实现紧密排列，因此基材能够实现全部方向的紧密排列，消除了基材之间的间隙，因此在后续镀膜过程中能够减少材料浪费。

优选的，所述托板在正对工件导板的一侧以及相邻于工件导板的两侧均设置有用于定位料盘的定位部件，定位部件包括定位气缸和定位条，定位气缸的活塞杆水平背离托板中心，定位气缸的活塞杆端部固定设置有位于托板上方的定位条。