[实用新型]一种简易制备高纯酸装置有效
申请号: | 202021625732.7 | 申请日: | 2020-08-07 |
公开(公告)号: | CN213912350U | 公开(公告)日: | 2021-08-10 |
发明(设计)人: | 乔培军 | 申请(专利权)人: | 同济大学 |
主分类号: | B01D1/00 | 分类号: | B01D1/00 |
代理公司: | 上海汇齐专利代理事务所(普通合伙) 31364 | 代理人: | 童强 |
地址: | 200000 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 简易 制备 高纯 装置 | ||
本实用新型涉及制备高纯酸技术领域,具体为一种简易制备高纯酸装置,包括箱体,所述箱体内设置有横截面呈三角形的格挡,所述格挡将所述箱体分割成一大一小两个腔室,所述格挡上设置有多个蒸酸装置;所述蒸酸装置包括试剂瓶A和试剂瓶B,所述试剂瓶A和试剂瓶B的瓶口通过设置的转接件连通;所述试剂瓶B的瓶体外包裹有导热片,所述导热片通过导线连接有温控器。该简易制备高纯酸装置蒸酸质量好,同时,通过温控器和导热片对整个试剂瓶B进行加热,酸受热蒸发后通过转接件运移到试剂瓶A内进行冷凝,这样极大地提高了加热时的效率,成本较低,操作便捷。
技术领域
本实用新型涉及制备高纯酸技术领域,具体为一种简易制备高纯酸装置。
背景技术
高纯酸是一种化学品,无色或微黄色透明液体,常见的高纯酸有氢氟酸、盐酸、盐酸等,高纯酸广泛应用于高纯分析、化工及半导体行业如在半导体工业中,主要应用于硅片的标准RCA清洗工艺中。用于清洗去除硅片表面金属及有机物等杂质。盐酸的纯度决定了表面残留金属的量,进而决定了半导体的成品率及产品的效能。
经检索,中国专利公开号为201220280725.7的专利公开了一种超高纯盐酸的提纯装置,包括括预热器和与储罐相连通的高位槽,预热器包括内管和套设在内管周围的外管,高位槽的出料口与外管的进料口相连接,外管的出料口与蒸馏釜相连通,蒸馏釜的底部设置有高沸点物出料口,蒸馏釜的上部依次设置有相通的填料塔和刺馏塔,上述专利存在以下不足:装置麻烦,且制备的过程繁琐,造价高,鉴于此,我们提出一种简易制备高纯酸装置。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种简易制备高纯酸装置,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:
一种简易制备高纯酸装置,包括箱体,所述箱体内设置有横截面呈三角形的格挡,所述格挡将所述箱体分割成一大一小两个腔室,所述格挡上设置有多个蒸酸装置;
所述蒸酸装置包括试剂瓶A和试剂瓶B,所述试剂瓶A和试剂瓶B的瓶口通过设置的转接件连通;
所述试剂瓶B的瓶体外包裹有导热片,所述导热片通过导线连接有温控器。
优选的,所述转接件设置有转接口A、转接口B和孔道C,所述转接口A 和转接口B通过孔道C连通,且所述转接口A、转接口B通过设置的内螺纹分别连接在所述试剂瓶A和试剂瓶B的瓶口处。
优选的,所述试剂瓶A位于所述格挡右侧的大腔室内,所述试剂瓶B位于所述格挡左侧的大腔室内。
优选的,所述箱体的外侧设置有进水孔和出水孔。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:
1.蒸酸质量好,试剂瓶A、试剂瓶AB及转接件组成密闭的蒸酸装置,可以避免被污染,转接口采用特氟龙材料制作,元素析出很低,保证蒸酸质量。
2.通过温控器和导热片对整个试剂瓶B进行加热,酸受热蒸发后通过转接件运移到试剂瓶A内进行冷凝,这样极大地提高了加热时的效率,操作便捷;
3.根据高纯酸的使用量,可以调整箱体大小,制作不同体积大小的蒸酸装置。
附图说明
图1为本实用新型的整体结构俯视图;
图2为本实用新型的整体结构侧视图;
图3为本实用新型转接件的内部结构剖视图。
图中:1、箱体;2、进水孔;3、出水孔;4、格挡;5、试剂瓶A;6、转接件;7、试剂瓶B;8、导热片;9、导线;10、温控器。
具体实施方式
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