[实用新型]显示面板和显示装置有效

专利信息
申请号: 202021654940.X 申请日: 2020-08-11
公开(公告)号: CN212277199U 公开(公告)日: 2021-01-01
发明(设计)人: 叶剑 申请(专利权)人: 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;G09F9/30
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 汪阮磊
地址: 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示 面板 显示装置
【说明书】:

本申请公开了一种显示面板和显示装置,通过在触控功能层的电极走线上设置带有中空部的绕线结构,可以减小立柱处触控功能层与阴极层之间的寄生电容,进而均衡触控功能层与阴极层之间寄生电容的整体一致性,避免了由于寄生电容不均衡而带来的噪声,有利于提升整体的触控报点率及灵敏度。

技术领域

本申请涉及显示技术领域,尤其涉及触控技术领域,具体涉及一种显示面板和显示装置。

背景技术

柔性有机发光二极管(OLED,Organic Light-Emitting Diode)显示器具有主动发光、可视角度大、色域宽、亮度高、响应速度快、低功耗,以及结构上可弯曲等优点越来越受到市场的欢迎,有趋势逐渐取代LCD(Liquid Crystal Display,液晶显示器)成为显示技术的主流。

传统技术方案中的基板一侧设置有像素定义层(PDL,pixel define layer),像素定义层的表面设置有立柱(PS,photo spacer)。在OLED蒸镀过程中,该立柱用于支撑高精度金属掩模板(FMM,Fine Metal Mask),因此,该立柱存在一定的高度,使得其上的阴极层与触控电极层之间的距离变小,增加了寄生电容,导致触控信号受到的容抗和/或阻抗增大,其延时加长,严重影响了立柱投影区域及周边的触控灵敏度及触控报点率等。

实用新型内容

本申请提供一种显示面板和显示装置,解决了由于立柱处阴极层与触控功能层之间的距离变小,导致寄生电容不均衡的问题。

第一方面,本申请提供一种显示面板,其包括:像素定义层;覆盖像素定义层的阴极层;位于像素定义层与阴极层之间的立柱;以及位于阴极层一侧且远离像素定义层的触控功能层,触控功能层设置有电极走线;其中,电极走线构造有带中空部的绕线结构,且中空部与立柱相对应,以降低立柱对应处阴极层与触控功能层之间的寄生电容。

基于第一方面,在第一方面的第一种实施方式中,立柱的正投影与中空部至少部分重叠,或者,中空部的正投影至少部分覆盖立柱。

基于第一方面,在第一方面的第二种实施方式中,绕线结构由第一宽度的电极走线围绕中空部形成;远离中空部的电极走线的宽度被配置为第二宽度,且第一宽度不大于第二宽度。

基于第一方面的第二种实施方式,在第一方面的第三种实施方式中,第一宽度不大于3微米;第二宽度不大于5微米。

基于第一方面的上述任一实施方式,在第一方面的第四种实施方式中,绕线结构与相邻的电极走线电性连接。

基于第一方面的第四种实施方式,在第一方面的第五种实施方式中,中空部设置有与电极走线相绝缘的遮光块。

基于第一方面的第五种实施方式,在第一方面的第六种实施方式中,遮光块的横截面形状与立柱的横截面形状相同。

基于第一方面的第六种实施方式,在第一方面的第七种实施方式中,遮光块的横截面面积不小于立柱的横截面面积的80%,且不大于立柱的横截面面积的120%。

基于第一方面,在第一方面的第八种实施方式中,显示面板还包括多个子像素;且电极走线的正投影位于相邻的子像素之间。

第二方面,本申请提供一种显示装置,其包括:像素定义层;覆盖像素定义层的阴极层;位于像素定义层与阴极层之间的立柱;以及位于阴极层一侧且远离像素定义层的触控功能层,触控功能层设置有第一电极走线和第二电极走线;其中,第一电极走线和/或第二电极走线构造有带中空部的绕线结构,且中空部与立柱相对应,以降低立柱对应处阴极层与触控功能层之间的寄生电容。

本申请提供的显示面板、显示装置,通过在触控功能层的电极走线上设置带有中空部的绕线结构,可以减小立柱处触控功能层与阴极层之间的寄生电容,进而均衡触控功能层与阴极层之间寄生电容的整体一致性,避免了由于寄生电容不均衡而带来的噪声,有利于提升整体的触控报点率及灵敏度。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉华星光电半导体显示技术有限公司,未经武汉华星光电半导体显示技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202021654940.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top