[实用新型]测量系统

权利要求书

1.一种测量系统，其特征在于，所述测量系统被配置为与处理设备集成，所述处理设备用于对结构进行光学测量，所述测量系统包括：

用于将所述结构保持在测量平面中的支撑组件，所述支撑组件被配置为沿第一横轴移动并且旋转移动，

光学系统，所述光学系统限定照明和收集光通道，其中，所述照明和收集光通道中的至少一个被配置为用于执行所述结构的光谱测量的倾斜光通道，其中，所述照明和收集光通道中的另一个照明和收集光通道被配置为垂直光通道，所述垂直光通道被配置用于成像，所述成像不同于所述光谱测量；

其中，所述测量平面垂直于所述第一横轴。

2.根据权利要求1所述的测量系统，其特征在于，所述光学系统包括物镜，所述物镜是短焦物镜。

3.根据权利要求1所述的测量系统，其特征在于，所述测量系统包括用于与所述处理设备交互的至少一个接口。

4.根据权利要求1所述的测量系统，其特征在于，所述测量系统包括用于与所述处理设备的设备前端模块交互的至少一个接口。

5.根据权利要求1所述的测量系统，其特征在于，所述测量系统的第一横轴覆盖尺寸超过所述测量系统的第二横轴覆盖尺寸。

6.根据权利要求1所述的测量系统，其特征在于，所述第一横轴垂直于所述处理设备的设备前端模块的装载端口。

7.根据权利要求1所述的测量系统，其特征在于，所述测量系统被配置为执行光学临界尺寸测量。

8.根据权利要求1所述的测量系统，其特征在于，所述处理设备是材料去除处理设备。

9.根据权利要求1所述的测量系统，其特征在于，所述处理设备是材料沉积处理设备。

10.根据权利要求8所述的测量系统，其特征在于，所述材料去除处理设备为化学机械抛光或蚀刻处理设备中的一种。

11.根据权利要求1所述的测量系统，其特征在于，所述测量系统进一步包括控制器，所述控制器被配置为控制所述测量系统的操作。

12.根据权利要求1所述的测量系统，其特征在于，所述测量系统进一步包括导航移动系统，所述导航移动系统被配置为分别控制所述支撑组件的旋转移动和所述支撑组件沿着所述第一横轴的移动。

13.根据权利要求1所述的测量系统，其特征在于，所述光学系统包括物镜，所述物镜配置有低色差。

14.根据权利要求1所述的测量系统，其特征在于，所述光学系统包括偏振器组件，所述偏振器组件包括位于所述照明和收集光通道中的至少一个中的至少一个偏振器。

15.根据权利要求1所述的测量系统，其特征在于，所述照明和收集光通道被安装在光学头上。

16.根据权利要求15所述的测量系统，其特征在于，所述光学头是能移动的。

17.根据权利要求16所述的测量系统，其特征在于，所述支撑组件被配置为控制所述测量平面相对于所述光学头的位置。

18.根据权利要求1所述的测量系统，其特征在于，所述支撑组件被配置为执行z轴移动。

19.根据权利要求1所述的测量系统，其特征在于，所述支撑组件被配置用于沿所述第一横轴在对应于所述结构的半径的距离中移动。