[实用新型]一种半自动化晶圆贴片载台有效
申请号: | 202021667787.4 | 申请日: | 2020-08-11 |
公开(公告)号: | CN212517124U | 公开(公告)日: | 2021-02-09 |
发明(设计)人: | 刘奕;周露露;舒威 | 申请(专利权)人: | 武汉锐晶激光芯片技术有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/683 |
代理公司: | 北京众达德权知识产权代理有限公司 11570 | 代理人: | 张晓冬 |
地址: | 430000 湖北省武*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 半自动 化晶圆贴片载台 | ||
本实用新型提供了一种半自动化晶圆贴片载台,属于晶圆贴片领域,包括底座、扩晶环平台、升降平台和控制旋钮,所述扩晶环平台固定在底座上,扩晶环平台内设有贯穿扩晶环平台轴向的空腔,所述升降平台设置在扩晶环平台中央,升降平台通过所述控制旋钮调节竖直方向的升降并固定在任意高度,所述扩晶环平台用于承载扩晶环,扩晶环中部连接晶圆黏性膜。该载台能够辅助晶圆贴片,让膜与晶圆能完全无缝隙附着在一起,避免贴片时产生鼓包气泡现象,提升晶圆良品率。
技术领域
本实用新型属于晶圆贴片领域,涉及一种半自动化晶圆贴片载台。
背景技术
对于高功率半导体激光器芯片的解理工艺,需要保证在晶圆送来后进行贴片划裂,如果在第一步贴片未将晶圆完全附着在黏性膜上,会造成N面与膜产生大量气泡和鼓包等现象,影响到后面划裂对晶圆造成的不确定损伤,多表现为隐藏的微裂和划线裂片偏歪,严重影响晶圆的良率。
目前,晶圆贴片都是纯手工进行操作,在纯手工操作时会产生非常多不确定因素对晶圆造成损伤,不能完全让晶圆附着于黏性膜上,这会使N面与黏性膜之间产生空气。现有专利CN201810705857.1,《一种全自动晶圆贴膜机》中所设计的贴膜贴片机存在以下缺陷:在贴片中只能针对完好无损的晶圆,碰到碎片等状况并不能及时处理贴片问题,如果完全依靠全自动化贴片,不利于贴片的多元化,生产受到局限。
在实际生产中,根据不同工艺要求,晶圆会出现很多状况,单靠全自动晶圆贴膜机并不能妥善处理好工艺需求,相应的制作成本也就大幅度提高。因此我们需要设计一款关于贴片的载台,让膜与晶圆能完全无缝隙附着在一起。
实用新型内容
为了解决晶圆贴片工艺中晶圆N面与黏性膜之间产生空气的技术问题,本实用新型提供了一种半自动化晶圆贴片载台,该载台能够辅助晶圆贴片,让膜与晶圆能完全无缝隙附着在一起,避免贴片时产生鼓包气泡现象,提升晶圆良品率。
本实用新型通过以下技术方案实现:
一种半自动化晶圆贴片载台,包括底座、扩晶环平台、升降平台和控制旋钮,所述扩晶环平台固定在底座上,扩晶环平台内设有贯穿扩晶环平台轴向的空腔,所述升降平台设置在扩晶环平台中央,升降平台通过所述控制旋钮调节竖直方向的升降并维持在任意高度,所述扩晶环平台用于承载扩晶环,扩晶环中部连接晶圆黏性膜。
其中,所述控制旋钮设置在底座侧壁上,控制旋钮连接螺杆一,螺杆一水平穿入底座内,所述升降平台底部插入一个安装筒内并可在安装筒内自由旋转,安装筒底部固定连接螺杆二,螺杆二竖直插入底座内并与螺杆一啮合。
进一步的,所述安装筒为竖直的圆筒形结构,底部设有密封板,所述螺杆二顶部与密封板连接。
进一步的,所述安装筒高度为升降平台高度的1/2。扩晶环平面宽度为5-8cm,可有效放置更多尺寸的扩晶环。
进一步的,所述升降平台顶端呈圆形,直径为1-4cm。
进一步的,所述底座与黏性膜大小一致。
进一步的,所述扩晶环平台为圆筒结构或中空的六棱柱结构。
进一步的,所述升降平台的最大高度大于扩晶环平台高度,且高度差为2-3cm,所述升降平台的最小高度等于扩晶环平台高度。
进一步的,所述扩晶环平台高度为2cm。
进一步的,所述升降平台顶端为阶梯式结构,阶梯式结构的横截面面积从下往上逐步减小。
本实用新型实施例中的一个或多个技术方案,至少具有如下技术效果或优点:
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉锐晶激光芯片技术有限公司,未经武汉锐晶激光芯片技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202021667787.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种组合式电源装置
- 下一篇:一种基于外墙装饰结构的泛光照明装置
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造