[实用新型]一种晶圆蒸镀中的防护组件

说明书

本实用新型涉及一种晶圆蒸镀中的防护组件，所述晶圆蒸镀中的防护组件包括圆盘、阻隔件及圆环；所述圆环的内径和所述圆盘的外径相同；所述圆环内壁设置有支撑环；所述圆盘与圆环相配合的一面设置有凹槽和环形槽；所述环形槽的最大直径等于晶圆的直径；所述环形槽围绕所述凹槽设置；所述阻隔件设置于所述环形槽内；所述阻隔件最小垂直高度大于所述环形槽的最大垂直深度；所述凹槽的底面低于所述阻隔件安装后最高点所在水平面。本实用新型提供的晶圆蒸镀中的防护组件通过设置阻隔件实现了晶圆和不锈钢环之间不会发生相对位移，也保证了圆盘不会和晶圆接触，从而解决了蒸镀过程中晶圆划伤和被污染的问题。

技术领域

本实用新型涉及蒸镀领域，具体涉及一种晶圆蒸镀中的防护组件。

背景技术

蒸镀，是指在真空条件下，采用一定的加热蒸发方式蒸发镀膜材料(或称膜料)并使之气化，粒子飞至基片表面凝聚成膜的工艺方法。蒸镀是使用较早、用途较广泛的气相沉积技术，具有成膜方法简单、薄膜纯度和致密性高、膜结构和性能独特等优点。

WO2015158048A1公开了一种真空蒸镀设备，涉及真空蒸镀技术领域，能够提高真空蒸镀过程中的有机材料的利用率。所述真空蒸镀设备包括蒸镀腔和设置于所述蒸镀腔中的蒸发源，还包括：设置于所述蒸镀腔中的多块基板，所述多块基板位于所述蒸发源开口的一侧；所述蒸发源开口作为球心形成第一球面，每块所述多块基板均与所述第一球面相切。

WO2015100787A1公开了一种真空蒸镀装置，包括真空腔体、设于真空腔体内部的蒸镀源，其中，所述蒸镀源包括内加热单元和位于内加热单元外部的外加热单元；所述内加热单元内壁形成一材料容器，所述内加热单元外壁与所述外加热单元内壁之间为一真空夹层；所述内加热单元上设有具有允许蒸汽通过的第一支路，所述外加热单元上设有具有允许蒸汽通过的第二支路。该装置不仅克服了大面积掩模板中部因重力变形出现缝隙而影响光色纯度的问题，同时也提高了蒸镀材料受热的均匀性和蒸镀速率的稳定性。

目前，在蒸镀过程中，晶圆的固定依靠铝盘与不锈钢环，依靠弹簧片在一定的作用力下，通过相互的摩擦力保持晶圆和铝盘、不锈钢环相对静止。然而在蒸镀过程中由于晶圆与铝盘与不锈钢环直接接触，接触边缘会与晶圆边缘发生相对位移，导致晶圆边缘划伤，晶圆报废。

实用新型内容

鉴于现有技术中存在的问题，本实用新型的目的在于提供一种晶圆蒸镀中的防护组件，本实用新型提供的防护组件即保证了晶圆和不锈钢环之间不会发生相对位移，也保证了圆盘不会和晶圆接触，从而解决了蒸镀过程中晶圆划伤和被污染的问题。

为达此目的，本实用新型采用以下技术方案：

本实用新型提供了一种晶圆蒸镀中的防护组件，所述晶圆蒸镀中的防护组件包括圆盘、阻隔件及圆环；

所述圆环的内径和所述圆盘的外径相同；

所述圆环内壁设置有支撑环；

所述圆盘与圆环相配合的一面设置有凹槽和环形槽；

所述环形槽的最大直径等于晶圆的直径；

所述环形槽围绕所述凹槽设置；

所述阻隔件设置于所述环形槽内；

所述阻隔件最小垂直高度大于所述环形槽的最大垂直深度；

所述凹槽的底面低于所述阻隔件安装后最高点所在水平面。

本实用新型提供的晶圆蒸镀中的防护组件通过设置阻隔件实现了晶圆和不锈钢环之间不会发生相对位移，也保证了圆盘不会和晶圆接触，从而解决了蒸镀过程中晶圆划伤和被污染的问题。