[实用新型]一种二氧化硅研磨搅拌装置有效

专利信息
申请号: 202021687034.X 申请日: 2020-08-13
公开(公告)号: CN213468041U 公开(公告)日: 2021-06-18
发明(设计)人: 蔡景华;蔡浪华;左鹏志 申请(专利权)人: 福建硅纳金新材料有限公司
主分类号: B02C17/10 分类号: B02C17/10;B02C17/18;B02C17/24;B02C23/16;B07B1/28;F16F15/067
代理公司: 福州科扬专利事务所(普通合伙) 35001 代理人: 余榕榕
地址: 364200 福建省龙岩市上杭*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 二氧化硅 研磨 搅拌 装置
【说明书】:

实用新型公开了一种二氧化硅研磨搅拌装置,包括研磨箱,所述研磨箱的底部中心处开设有出料口,所述研磨箱的顶部一侧开设有进料口,所述研磨箱的顶部内壁四周固定有卡座,所述卡座上卡接固定有定位板,所述定位板固定有过滤箱的顶部四周,所述研磨箱的顶部中心处安装有减速电机,所述减速电机的输出端上固定有转轴,所述转轴上固定有研磨叶,所述过滤箱的内部分布有研磨球,所述研磨箱对应两侧内壁固定有振打器。本实用新型结构新颖,构思巧妙,通过设置的振打器击打振打片,造成过滤箱振动,便于研磨后的二氧化硅快速通过过滤箱,防止二氧化硅造成过滤箱滤孔堵塞,影响二氧化硅的研磨效率。

技术领域

本实用新型涉及二氧化硅加工技术领域,具体为一种二氧化硅研磨搅拌装置。

背景技术

硅原子和氧原子长程有序排列形成晶态二氧化硅,短程有序或长程无序排列形成非晶态二氧化硅。二氧化硅晶体中,硅原子位于正四面体的中心,四个氧原子位于正四面体的四个顶角上,许多个这样的四面体又通过顶角的氧原子相连,每个氧原子为两个四面体共有,即每个氧原子与两个硅原子相结合。二氧化硅的最简式是SiO2,但SiO2不代表一个简单分子(仅表示二氧化硅晶体中硅和氧的原子个数之比)。纯净的天然二氧化硅晶体,是一种坚硬、脆性、难溶的无色透明的固体,常用于制造光学仪器等。

黑硅就是把硅片弄成黑色,硅片还是原来的硅片,在表面用涂料做一层涂层。二氧化硅涂层需要通过二氧化硅粉制备,二氧化硅粉在生产过程中需要对二氧化硅粉进行研磨。现有技术中的二氧化硅研磨装置,易造成研磨后的二氧化硅堵塞滤网孔,影响研磨效率。因此,设计一种二氧化硅研磨搅拌装置是很有必要的。

实用新型内容

针对上述情况,为克服现有技术的缺陷,本实用新型提供一种二氧化硅研磨搅拌装置,该装置结构新颖,构思巧妙,通过设置的振打器击打振打片,造成过滤箱振动,便于研磨后的二氧化硅快速通过过滤箱,防止二氧化硅造成过滤箱滤孔堵塞,影响二氧化硅的研磨效率。

为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种二氧化硅研磨搅拌装置,包括研磨箱,所述研磨箱的底部中心处开设有出料口,所述研磨箱的顶部一侧开设有进料口,所述研磨箱的顶部内壁四周固定有卡座,所述卡座上卡接固定有定位板,所述定位板固定有过滤箱的顶部四周,所述研磨箱的顶部中心处安装有减速电机,所述减速电机的输出端上固定有转轴,所述转轴上固定有研磨叶,所述过滤箱的内部分布有研磨球,所述研磨箱对应两侧内壁固定有振打器,所述过滤箱的底部两侧固定有与振打器配合使用的振打片,所述研磨箱的外壁一侧安装有控制板,所述控制板电性连接减速电机和振打器。

优选的,所述研磨球上分布有若干个研磨凸起。

优选的,所述研磨箱固定在机架上,所述机架的底部四个拐角位置处安装有缓冲支脚。

优选的,所述缓冲支脚包括伸缩槽、支撑弹簧、伸缩杆、滑块和底脚,所述伸缩槽开设在机架的底部四个拐角位置处,所述伸缩槽的内部滑动有滑块,所述滑块的顶端通过支撑弹簧固定在伸缩槽的顶部,所述滑块的底部安装有穿过伸缩槽的伸缩杆,所述伸缩杆的底部安装有底脚。

优选的,所述出料口上安装有出料阀,所述进料口上旋接固定有端盖。

本实用新型的有益效果为:

1、将需要研磨的二氧化硅通过进料口导入到过滤箱的内部,通过设置的减速电机带动转轴旋转,从而带动研磨叶旋转,在研磨叶和研磨球的相互作用下,对二氧化硅进行研磨工作,研磨的二氧化硅细度符合过滤箱的滤孔直径时,会自动通过过滤箱从出料口排出,通过设置的振打器击打振打片,造成过滤箱振动,便于研磨后的二氧化硅快速通过过滤箱,防止二氧化硅造成过滤箱滤孔堵塞,影响二氧化硅的研磨效率;

2、研磨箱在工作的过程中会发生振动,通过设置的滑块在伸缩槽的内部运动,造成支撑弹簧受力压缩,在支撑弹簧的反向作用力下,使其具有良好的减震功能。

附图说明

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