[实用新型]一种化学气相沉积设备气体分配器结构有效
申请号: | 202021738330.8 | 申请日: | 2020-08-19 |
公开(公告)号: | CN212834020U | 公开(公告)日: | 2021-03-30 |
发明(设计)人: | 张伏贵;陆桥宏;任斌;任志强;王小艳 | 申请(专利权)人: | 无锡展硕科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;H01J37/32 |
代理公司: | 无锡派尔特知识产权代理事务所(普通合伙) 32340 | 代理人: | 杨立秋 |
地址: | 214000 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 化学 沉积 设备 气体 分配器 结构 | ||
1.一种化学气相沉积设备气体分配器结构,包括壳体(1),其特征在于:所述壳体(1)的顶部外侧设有固定环(2),所述固定环(2)的外壁周向设有四组固定耳板(3),所述固定环(2)的内壁开设有第一密封槽(4),所述壳体(1)的顶部内侧开设有第二密封槽(5),所述壳体(1)的内腔底部均匀开设有分配气孔(6);
所述壳体(1)的内外壁上还包括依次设置的消音涂层(7)和耐腐蚀涂层(8),且所述消音涂层(7)为消音涂料喷涂制成,所述耐腐蚀涂层(8)为金属陶瓷涂层材质制成。
2.根据权利要求1所述的一种化学气相沉积设备气体分配器结构,其特征在于:所述固定耳板(3)上还包括对称开设的两组螺纹孔(9)。
3.根据权利要求1所述的一种化学气相沉积设备气体分配器结构,其特征在于:所述第一密封槽(4)由四组弧形部(41)和四组直线部(42)交错设置,所述第二密封槽(5)呈环形结构设置,且所述第一密封槽(4)和所述第二密封槽(5)内分别安装有相匹配的密封圈。
4.根据权利要求1所述的一种化学气相沉积设备气体分配器结构,其特征在于:所述分配气孔(6)包括上部设置的锥状孔(61)和下部设置的柱状孔(62),且所述锥状孔(61)的底部孔径和所述柱状孔(62)的孔径相一致。
5.根据权利要求1所述的一种化学气相沉积设备气体分配器结构,其特征在于:所述消音涂层(7)上喷涂的消音涂料为硅酸铝纤维涂料材质制成。
6.根据权利要求1所述的一种化学气相沉积设备气体分配器结构,其特征在于:所述壳体(1)的内侧壁与内底壁之间的连接处、所述壳体(1)的外侧壁与外底壁之间的连接处均为圆角过渡结构设置。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的