[实用新型]一种金属部件的熔射保护治具有效
申请号: | 202021738482.8 | 申请日: | 2020-08-19 |
公开(公告)号: | CN212725226U | 公开(公告)日: | 2021-03-16 |
发明(设计)人: | 穆帅帅;张代龙;马有杰;贺贤汉 | 申请(专利权)人: | 富乐德科技发展(天津)有限公司 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32;C23C14/04 |
代理公司: | 天津市新天方专利代理有限责任公司 12104 | 代理人: | 孔珍 |
地址: | 301712 天津*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 金属 部件 保护 | ||
本实用新型是一种金属部件的熔射保护治具,包括底座,其特征在于,底座上竖直固接有支撑圆杆,支撑圆杆上由上到下设有若干组产品连接机构,每组产品连接机构上均连有产品部件,产品部件套置在支撑圆杆上,产品部件的顶端面与上阻挡圆盘接触。本实用新型通过在支撑圆杆上由上到下设置若干安有下阻挡圆盘和上阻挡圆盘的产品连接机构,对半导体设备外部防护帽的非沉积区域进行遮蔽,与常规采用胶带进行遮蔽部件外部防护帽相比,解决了保护边缘不齐,有残胶的问题,便于同时对多个部件外部防护帽进行熔射作业,提高了熔射效率,与部件外部防护帽贴合紧密,遮蔽精度高,安装方便,利于反复使用。
技术领域
本实用新型涉及熔射保护技术领域,尤其涉及一种金属部件的熔射保护治具。
背景技术
部件外部防护帽(outer cap)使用在半导体金属沉积的设备中,外部防护帽只有外侧沉积金属,需要做喷砂和熔射处理,内表面需要保持较高的光洁度,避免影响与其它部件组装时的配合度。当前,部件外部防护帽在熔射作业时,通常采用胶带对半导体设备外部防护帽的非沉积区域进行遮蔽,存在保护边缘不齐,有残胶的问题,而且熔射效率不理想。
发明内容
本实用新型旨在解决现有技术的不足,而提供一种金属部件的熔射保护治具。
本实用新型为实现上述目的,采用以下技术方案:
一种金属部件的熔射保护治具,包括底座,其特征在于,底座上竖直固接有支撑圆杆,支撑圆杆上由上到下设有若干组产品连接机构,每组产品连接机构包括上下两层固接在支撑圆杆侧壁上的若干支撑圆柱,每层的左右支撑圆柱关于支撑圆杆对称设置,每组产品连接机构的下层支撑圆柱上设有下阻挡圆盘,每组产品连接机构的上层支撑圆柱上设有上阻挡圆盘,下阻挡圆盘和上阻挡圆盘上均设有供支撑圆杆穿过的圆形孔,下阻挡圆盘和上阻挡圆盘上均设有供支撑圆柱穿过的开孔,开孔与相应的圆形孔相连通,每组产品连接机构上均连有产品部件,产品部件套置在支撑圆杆上,产品部件的顶端面与上阻挡圆盘接触,产品部件的底端面与下阻挡圆盘之间通过螺纹安有若干连接螺栓,位于最顶端的产品连接机构中的上阻挡圆盘与支撑圆杆之间通过顶部螺栓连接。
所述底座为方形不锈钢板。
所述底座上四周设有安装孔,底座的安装孔内设有螺栓,底座通过螺栓穿过安装孔与外界转盘连接。
所述支撑圆杆的底部与底座焊接固定。
所述支撑圆柱与支撑圆杆之间通过焊接方式固接。
所述下阻挡圆盘的厚度和上阻挡圆盘的厚度相同。
每组所述产品连接机构中连接螺栓的个数为2。
本实用新型的有益效果是:本实用新型结构简单,设计合理,通过在支撑圆杆上由上到下设置若干安有下阻挡圆盘和上阻挡圆盘的产品连接机构,对半导体设备外部防护帽的非沉积区域进行遮蔽,与常规采用胶带进行遮蔽部件外部防护帽相比,解决了保护边缘不齐,有残胶的问题,便于同时对多个部件外部防护帽进行熔射作业,提高了熔射效率,与部件外部防护帽贴合紧密,遮蔽精度高,安装方便,利于反复使用。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图;
图2为本实用新型中底座、支撑圆杆与支撑圆柱的连接示意图;
图中:1-底座;2-螺栓;3-支撑圆杆;4-下阻挡圆盘;5-开孔;6-支撑圆柱; 7-上阻挡圆盘;8-产品部件;9-连接螺栓;10-顶部螺栓;
以下将结合本实用新型的实施例参照附图进行详细叙述。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步说明:
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