[实用新型]表面处理遮蔽装置

权利要求书

1.一种表面处理遮蔽装置，其特征在于，包括：

底座，所述底座内限定两端敞开的料带输送通道，料带自所述料带输送通道的一敞开端进入所述料带输送通道并由所述料带输送通道的另一所述敞开端输送出，所述底座上邻近所述料带所在方向的一侧设有多个沿其厚度方向贯通的通孔，所述通孔与所述料带输送通道连通；

喷头，所述喷头设于所述底座且与所述通孔连通以对所述料带喷涂表面处理液；

定位块，所述定位块设于所述底座，所述定位块位于所述料带输送通道的内壁面上且与所述料带相连以对所述料带进行定位。

2.根据权利要求1所述的表面处理遮蔽装置，其特征在于，所述底座包括：

两个安装座，两个所述安装座间隔开相对设置，两个所述安装座之间配合限定有所述料带输送通道。

3.根据权利要求1所述的表面处理遮蔽装置，其特征在于，所述定位块形成为玻璃定位块。

4.根据权利要求1所述的表面处理遮蔽装置，其特征在于，所述定位块形成为长条形且沿所述料带输送通道的轴向延伸。

5.根据权利要求1所述的表面处理遮蔽装置，其特征在于，还包括：

多个定位件，多个所述定位件分别与所述定位块、所述喷头和所述底座相连以将所述定位块和所述喷头固定至所述底座。

6.根据权利要求1所述的表面处理遮蔽装置，其特征在于，所述料带输送通道沿水平方向延伸，所述表面处理遮蔽装置还包括：

喷头上盖，所述喷头上盖设于所述料带输送通道的上方且与所述底座相连。

7.根据权利要求1所述的表面处理遮蔽装置，其特征在于，还包括：

胶条，所述胶条设于所述料带输送通道且位于所述底座和所述料带之间。

8.根据权利要求1所述的表面处理遮蔽装置，其特征在于，还包括：

电镀槽，所述电镀槽内盛有电镀液且与所述喷头相连；

阳极导电杆，所述阳极导电杆与所述电镀槽相连；

阳极，所述阳极设于所述阳极导电杆，所述阳极为镀铂金钛阳极。

9.根据权利要求1所述的表面处理遮蔽装置，其特征在于，所述定位块与所述底座之间可拆卸地相连。

10.根据权利要求2所述的表面处理遮蔽装置，其特征在于，还包括：

夹紧件，所述夹紧件分别与两个安装座相连以调节所述料带输送通道的宽度。