[实用新型]QPQ盐浴浓度分析仪用恒温控制系统

说明书

本实用新型公开了一种QPQ盐浴浓度分析仪用恒温控制系统，包括具有多个比色皿的检测室、与所述检测室连接并用于控制所述检测室温度的第一温控装置与第二温控装置、与所述第一温控装置连接的第一控制器、与所述第二温控装置连接的第二控制器及分别与所述第一控制器及所述第二控制器连接的总控制器，所述第一控制器配合所述第一温控装置对所述检测室进行加热粗控制，所述第二控制器配合所述第二温控装置对所述检测室进行加热细控制。与相关技术相比，本实用新型提供的QPQ盐浴浓度分析仪用恒温控制系统，温度恒温控制速度快，温度控制精度高，功耗低。

技术领域

本实用新型涉及金属元件制造加工业技术领域，尤其涉及一种QPQ盐浴浓度分析仪用恒温控制系统。

背景技术

QPQ(Quench-Polish-Quench)技术是一种金属表面改性技术，原意为淬火-抛光-淬火。用以提高钢的硬度、耐磨性和耐腐蚀性，主要工序是盐浴渗氮(盐浴氮碳共渗)+盐浴氧化。

QPQ盐浴中的氮化盐浴浓度(氰酸根含量)是QPQ工艺质量控制的一个重要指标，对零部件表面化合物层的深度和工件表面的硬度有直接的影响，盐浴浓度一般控制在32％-38％。QPQ氮化盐分析仪是基于分光光度技术，半自动在线监测QPQ氮化盐中氰酸根、氰化物和铁离子的浓度，对工件表面QPQ盐浴复合的质量控制提供量化的支持。

恒温控制系统是分光光度计生化检测仪非常重要的组成部分，保证了试剂与样品显色反应速度，对特征光谱吸光度检测的时间点和检测结果有着重大影响。要求对仪器检测室的温度控制非常准确，比色皿的温度分布非常均匀。恒温控制需要解决热惯性和散热两大难点。

因此，有必要提供一种新的温度恒温控制速度快，温度控制精度高，功耗低的QPQ盐浴浓度分析仪用恒温控制系统来解决上述问题。

实用新型内容

针对现有技术存在的不足，本实用新型的目的在于提供一种新的温度恒温控制速度快，温度控制精度高，功耗低的QPQ盐浴浓度分析仪用恒温控制系统。

为实现上述目的，本实用新型提供了如下技术方案:

一种QPQ盐浴浓度分析仪用恒温控制系统，包括具有多个比色皿的检测室、与所述检测室连接并用于控制所述检测室温度的第一温控装置与第二温控装置、与所述第一温控装置连接的第一控制器、与所述第二温控装置连接的第二控制器及分别与所述第一控制器及所述第二控制器连接的总控制器，所述第一控制器配合所述第一温控装置对所述检测室进行加热粗控制，所述第二控制器配合所述第二温控装置对所述检测室进行加热细控制。

优选的，所述检测室还包括底壁、与所述底壁相对设置的顶壁及连接所述底壁与所述顶壁的侧壁，所述底壁、所述顶壁及所述侧壁共同围成收容空间，所述第一温控装置包括嵌设于所述底壁并分别与所述第一控制器连接的第一温度传感器与加热丝，所述比色皿靠近所述加热丝设置并与所述底壁固定连接。

优选的，所述第一控制器为PID温度控制器。

优选的，所述第二温控装置包括设置于所述收容空间内的半导体制冷器、设置于所述收容空间内的第二温度传感器、贴设于所述顶壁内侧的多块散热片及设置于所述侧壁并连通所述收容空间与外界的散热风扇，所述半导体制冷器及所述第二温度传感器均与所述第二控制器电连接。

优选的，所述第二控制器为TEC控制器。

优选的，所述检测室的材料为金属铜。

优选的，所述第一温度传感器与所述第二温度传感器均为热电偶。

综上所述，与现有技术相比，本实用新型提供的QPQ盐浴浓度分析仪用恒温控制系统，通过所述第一控制器配合所述第一温控装置对所述检测室进行加热粗控制，所述第二控制器配合所述第二温控装置对所述检测室进行加热细控制，通过粗调和细控相结合的加热方式，解决了热惯性和散热两大难题，使得温度恒温控制速度快，温度控制精度高，且功耗低。