[实用新型]通过激光冲击强化的QPQ盐浴渗氮优化处理装置

说明书

本实用新型公开了一种通过激光冲击强化的QPQ盐浴渗氮优化处理装置，包括盐浴渗氮炉、夹设于所述盐浴渗氮炉两侧的两条相对平行间隔设置的导轨、安装于所述导轨并用于夹紧待加工工件的夹紧装置、设置于所述导轨一端的激光装置及抓取装置，所述盐浴渗氮炉设置于所述导轨的中间部分，所述抓取装置设置于所述盐浴渗氮炉的正上方。与相关技术相比，本实用新型提供的通过激光冲击强化的QPQ盐浴渗氮优化处理装置，提高了渗氮效率与渗层厚度，节能且高效。

技术领域

本实用新型涉及金属元件制造加工业技术领域，尤其涉及一种通过激光冲击强化的QPQ盐浴渗氮优化处理装置。

背景技术

QPQ(Quench-Polish-Quench)技术是一种金属表面改性技术，原意为淬火-抛光-淬火。能够显著提高金属零部件的耐磨性和服役寿命，具有渗氮温度较低、渗层均匀、绿色环保等诸多优点。

在QPQ技术中，其主要工序是盐浴渗氮(盐浴氮碳共渗)+盐浴氧化。但渗氮速度低和渗层厚度浅是制约该技术的一个瓶颈，需要探索和改进相关技术来提高渗氮效率和渗层质量。

因此，有必要提供一种新的提高了渗氮效率与渗层厚度，节能且高效的通过激光冲击强化的QPQ盐浴渗氮优化处理装置来解决上述问题。

实用新型内容

针对现有技术存在的不足，本实用新型的目的在于提供一种新的提高了渗氮效率与渗层厚度，节能且高效的通过激光冲击强化的QPQ盐浴渗氮优化处理装置。

为实现上述目的，本实用新型提供了如下技术方案:

一种通过激光冲击强化的QPQ盐浴渗氮优化处理装置，包括盐浴渗氮炉、夹设于所述盐浴渗氮炉两侧的两条相对平行间隔设置的导轨、安装于所述导轨并用于夹紧待加工工件的夹紧装置、设置于所述导轨一端的激光装置及抓取装置，所述盐浴渗氮炉设置于所述导轨的中间部分，所述抓取装置设置于所述盐浴渗氮炉的正上方。

优选的，所述激光装置包括设置于两条所述导轨远离所述盐浴渗氮炉一侧的两根第一支柱、连接两条所述第一支柱的第一梁柱及设置于所述第一梁柱的多个激光发射器，多个所述激光发射器沿所述第一梁柱的长度方向依次间隔设置，且最外侧的两个所述激光发射器向所述导轨的正投影落在两条所述导轨之间。

优选的，所述激光装置的参数如下：

激光波长为1064nm，激光能量为5J，脉冲宽度为15ns，光斑直径为3mm，约束层为流水介质，吸收层的厚度为0.1mm，光斑搭接率为50％。

优选的，所述夹紧装置包括与所述导轨滑动连接的本体部、设置于所述本体部一侧的紧固件、与所述紧固件固定连接并驱动所述紧固件沿直线运动的第一驱动装置及与所述紧固件连接并驱动所述紧固件旋转的第二驱动装置，在所述通过激光冲击强化的QPQ盐浴渗氮优化处理装置的使用过程中，位于两条所述导轨上的两个所述第一驱动装置分别驱动两个所述紧固件相向运动并将待加工工件夹紧，所述第二驱动装置驱动所述紧固件旋转以带动所述待加工工件旋转。

优选的，所述第一驱动装置为电机，所述第二驱动装置为气缸。

优选的，所述第二驱动装置的转速为4r/min-10r/min。

优选的，所述抓取装置包括设置于两条所述导轨远离所述盐浴渗氮炉一侧的两根第二支柱、连接两条所述第二支柱的第二梁柱及设置于所述第二梁柱的抓取器，所述抓取器为磁吸装置或机械手。

优选的，所述盐浴渗氮炉包括炉体部及与所述炉体部活动连接的滑动门，所述滑动门的数量为两块，两块所述滑动门与所述导轨的侧壁滑动连接并沿所述导轨的设置方向同时相向或相背滑动。