[实用新型]一种恒线速度平面研磨运动机构有效

专利信息
申请号: 202021772637.X 申请日: 2020-08-21
公开(公告)号: CN212886985U 公开(公告)日: 2021-04-06
发明(设计)人: 余金林 申请(专利权)人: 武汉市飞托克实业有限公司
主分类号: B24B37/10 分类号: B24B37/10;B24B37/30;B24B37/34;B24B37/11;B24B41/02;B24B47/12
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 430415 湖北省武汉市阳逻*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 线速度 平面 研磨 运动 机构
【说明书】:

实用新型涉及一种恒线速度平面研磨运动机构,包括底座板、步进电机、曲柄、X向导轨、X向导轨滑块、Y向导轨、Y向导轨滑块、曲柄轴、机构中间板、台面板。所述步进电机连接在底座板上,所述曲柄安装在步进电机输出轴上,所述Y向导轨固定在底座板上,所述Y向导轨滑块设置在Y向导轨上,所述机构中间板设置在Y向导轨滑块上,所述X向导轨设置在机构中间板上,所述X向导轨滑块设置在X向导轨上,所述台面板设置在X向导轨滑块上,所述曲柄轴上端与台面板连接,下端与曲轴连接。本实用新型通过在X轴向和Y轴向设置导轨及滑块,使得台面板上所有点均作无转动的画圆运动,工件受到360度方向均匀分布的摩擦力,研磨更加充分,有效的改善研磨效果。

技术领域

本实用新型涉及平面研磨机,具体涉及一种恒线速度平面研磨运动机构。

背景技术

现有的平面研磨机中,行星运动平面研磨机是应用最为广泛的一种。行星运动平面研磨机,工件相对于磨盘转动的同时也绕自身轴线旋转,其示意图如图1所示。工件上除了A点以外的点相对于磨盘做摆线运动,其线速度大小周期变化,越靠近工件外沿的点线速度变化幅度越大,工件受到的研磨力分布不均匀,导致研磨效果差。

实用新型内容

为了解决现有技术的不足,本实用新型提供一种恒定线速度的研磨运动机构,研磨过程中工件上磨痕在任意方向上都有分布,且工件上每个点相对于台面板(研具)的线速度都相同,提高研磨平面度及表面粗糙度,本实用新型包括底座板、步进电机、曲柄、X向导轨、X向导轨滑块、Y向导轨、Y向导轨滑块、曲柄轴、机构中间板、台面板,所述步进电机连接在底座板上,所述曲柄安装在步进电机输出轴上,所述Y向导轨固定在底座板上,所述Y向导轨滑块设置在Y向导轨上,所述机构中间板设置在Y向导轨滑块上,所述X向导轨设置在机构中间板上,所述X向导轨滑块设置在X向导轨上,所述台面板设置在X 向导轨滑块上,所述曲柄轴上端与台面板连接,下端与曲轴连接,所述机构中间板可随Y向导轨滑块在Y轴方向运动,所述台面板可随X向导轨滑块在X轴方向运动。

进一步地,所述台面板上设置有外框,所述外框通过外框连接板与外框支座连接,所述外框支座底部固定在所述底座板上。

进一步地,所述外框内设置有压重块。

本实用新型中工件相对台面板(研具)做正反转恒线速度画圆运动,工件受到360度方向均匀分布的摩擦力,研磨面磨痕360度各向均匀分布,研磨面上每个点的研磨线速度均相同且恒定,研磨效果得到有效的改善。

附图说明

图1为现有技术研磨机的运动简图;

图2为本实用新型轴侧剖视图;

图3为本实用新型运动简图

具体实施方式

为了便于本领域技术人员的理解,下面结合附图对本实用新型作进一步的描述。

参照附图2-3,本实用新型包括底座板10、步进电机32、曲柄12、X向导轨16、X向导轨滑块18、Y向导轨26、Y向导轨滑块28、曲柄轴34、机构中间板22、台面板38。步进电机32通过螺钉48连接在底座板10上,曲柄12安装在步进电机32输出轴上,曲柄12相对于电机轴固定不动。当步进电机32旋转时,曲柄12跟着旋转。Y向导轨26通过螺钉52固定在底座板10上,Y向导轨滑块28设置在Y向导轨26上,Y向导轨滑块28可在Y向导轨26上沿Y向滑动。机构中间板22设置在Y向导轨滑块28上,并通过螺钉54固定,机构中间板22 可随Y向导轨滑块28一同在Y轴方向运动。X向导轨16通过螺钉58固定连接在机构中间板22上,X向导轨滑块18设置在X向导轨16上,台面板38通过螺钉62与X向导轨滑块18连接,台面板38可随X向导轨滑块18一同在X轴方向运动。曲柄轴34上端通过螺钉56与台面板38连接,下端插入曲柄12上端的定位孔20中。

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