[实用新型]一种用于光学元件的清洗装置有效
申请号: | 202021778438.X | 申请日: | 2020-08-24 |
公开(公告)号: | CN213079303U | 公开(公告)日: | 2021-04-30 |
发明(设计)人: | 王其征;毛毳 | 申请(专利权)人: | 丹阳市瑞华光学元件有限公司 |
主分类号: | B08B3/02 | 分类号: | B08B3/02;B08B3/12;B08B13/00 |
代理公司: | 南京正联知识产权代理有限公司 32243 | 代理人: | 刘悦 |
地址: | 212300 江苏省镇江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 光学 元件 清洗 装置 | ||
一种用于光学元件的清洗装置,包括清洗槽和清洗篮,所述清洗槽内上半部分为喷淋区,下半部分为超声波清洗区,所述超声波清洗区内其中相对两侧壁上分别设有第一超声波发生器和第二超声波发生器,所述清洗槽底部设有用于放置清洗篮的座板,所述座板的底面连接升降机构,所述清洗篮包括框体,所述筐体包括底框,顶框以及围设在底框和顶框之间的多个立杆,所述框体内平行设有多个用于放置光学元件的槽体,所述喷淋区内其侧壁上均设有淋喷头,所述淋喷头通过水管连接水源,所述清洗槽的上方和下方分别设有进水口和排水口,其先后通过超声波发生器和喷淋机构对光学元件进行清洗,避免随着清洗次数的增加超声清洗区内水变浑浊后清洗不彻底的问题。
技术领域
本实用新型属于光学技术领域,具体涉及一种用于光学元件的清洗装置。
背景技术
光学元件可用于制造光学仪器中的透镜、棱镜、反射镜及窗口等;光学元件是光学仪器中的重要组成部分,光学元件在生产过程中,需要对光学元件进行清洗,特别对于其表面洁净度有非常高的要求。但是,现有的光学元件在清洗过程中随着清洗数量的增加,清洗水易变的浑浊,从而导致清洗不彻底,易被清洗水二次污染。
因此上述问题是在对光学元件清洗装置的设计和使用过程中应当予以考虑并解决的问题。
实用新型内容
针对上述存在的问题,本实用新型提供一种结构简单的用于光学元件的清洗装置。
本实用新型的技术解决方案是:一种用于光学元件的清洗装置,包括清洗槽和清洗篮,所述清洗槽内上半部分为喷淋区,下半部分为超声波清洗区,所述超声波清洗区内其中相对两侧壁上分别设有第一超声波发生器和第二超声波发生器,所述清洗槽底部设有用于放置清洗篮的座板,所述座板的底面连接升降机构,所述清洗篮包括框体,所述筐体包括底框,顶框以及围设在底框和顶框之间的多个立杆,所述框体内平行设有多个用于放置光学元件的槽体,所述喷淋区内其侧壁上均设有淋喷头,所述淋喷头通过水管连接水源,所述清洗槽的上方和下方分别设有进水口和排水口。
本实用新型的进一步改进在于:所述底框内部交叉设有多条加强筋条,所述加强筋条的交点即底框的中部设有定位孔,所述座板上设有和所述定位孔适配的定位柱。本实用新型的进一步改进在于:所述槽体包括方形的外框,其侧板和底板设有网孔,所述外框内设有多组相互平行的夹持条,所述夹持条的相对面设置有齿形夹装槽。
本实用新型的进一步改进在于:所述夹装槽的内面设有软垫层。
本实用新型的进一步改进在于:所述槽体的两端设有挂槽,相对面的一组立杆上设有多组挂钩,所述槽体依次挂设在所述立杆上。
本实用新型的进一步改进在于:所述升降机构设置在所述清洗槽底部,采用气缸或者升降电机,其输出轴穿过所述清洗槽,所述座板设置在所述输出轴的端部。
本实用新型的进一步改进在于:所述进水口和排水口处均设有阀门。
本实用新型的进一步改进在于:所述清洗槽的顶部设有门体,所述门体的内沿设有密封圈,所述清洗槽对应喷淋区的侧壁上设有透明观察窗。
本实用新型的工作原理是:将清洗篮固定在座板上,座板设置在升降机构上,当对光学元件进行清洗时,如果光学元件表面灰尘杂质特别多,可以将升降机构升高使清洗篮处于喷淋区内,喷淋头接通水源,对清洗篮内的光学元件进行初步的冲洗,同时水落入到超声波清洗区,然后升降机构下降,将清洗篮带入到超声波清洗区,启动超声波发生器,对光学元件进行进一步的超声波精洗,之后再将清洗篮升至喷淋区内,对光学元件进行最后的冲洗,如果光学元件表面灰尘不是很多,则可省去第一步,直接超声波清洗之后然后喷淋冲洗即可。
本实用新型的有益效果是:其结构简单,先通过超声波发生器对光学元件进行初步清洗,然后通过喷淋机构对光学元件进一步清洗,避免随着清洗次数的增加超声清洗区内水变浑浊后清洗不彻底的问题,进一步提高其洁净度。
附图说明
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