[实用新型]一种用于原子层沉积工艺的装置

权利要求书

1.一种用于原子层沉积工艺的装置，其特征在于，包括有外真空腔体、内反应腔体、工件架、加热组件、进气组件和真空组件，所述内反应腔体固设于所述外真空腔体内，所述工件架设于所述内反应腔体内，所述加热组件围绕所述内反应腔体设置，且设于所述内反应腔体的顶端和底端，所述进气组件分别与所述外真空腔体和内反应腔体连通，所述真空组件分别与所述外真空腔体和内反应腔体连通。

2.根据权利要求1所述的用于原子层沉积工艺的装置，其特征在于，所述内反应腔体上设有盖板，所述盖板通过螺栓固定于所述内反应腔体的上端。

3.根据权利要求1所述的用于原子层沉积工艺的装置，其特征在于，所述外真空腔体上设有门板，所述门板转动设置于所述外真空腔体的上端。

4.根据权利要求2或3所述的用于原子层沉积工艺的装置，其特征在于，所述真空组件包括低真空单元、高真空单元和排气管道，所述低真空单元通过排气管道与所述内反应腔体连通，所述高真空单元通过排气管道与所述外真空腔体连通，所述低真空单元通过排气管道与所述高真空单元连通。

5.根据权利要求4所述的用于原子层沉积工艺的装置，其特征在于，所述低真空单元包括有主阀和真空泵，所述内反应腔体与所述真空泵连通，所述主阀设于所述内反应腔体与所述真空泵之间。

6.根据权利要求5所述的用于原子层沉积工艺的装置，其特征在于，所述低真空单元还包括有过滤器，所述过滤器设于所述主阀与所述真空泵之间。

7.根据权利要求5所述的用于原子层沉积工艺的装置，其特征在于，所述高真空单元包括有涡轮分子泵、插板阀、前级阀和预抽阀，所述涡轮分子泵与所述外真空腔体连通，所述插板阀设于所述涡轮分子泵与所述外真空腔体之间，所述前级阀设于所述真空泵与所述涡轮分子阀之间，所述预抽阀设于所述真空泵与所述外真空腔体之间。

8.根据权利要求7所述的用于原子层沉积工艺的装置，其特征在于，所述外真空腔体设有隔热层，所述隔热层设于位于外真空腔体内的排气管道的外表面。

9.根据权利要求8所述的用于原子层沉积工艺的装置，其特征在于，所述进气组件包括有前驱体进气单元和载流气体进气单元，所述前驱体进气单元与所述内反应腔体连通，所述载流气体进气单元分别与所述前驱体进气单元和所述外真空腔体连通。

10.根据权利要求9所述的用于原子层沉积工艺的装置，其特征在于，其进一步设有放气阀，所述放气阀与所述外真空腔体连通。