[实用新型]一种清洗设备

权利要求书

1.一种清洗设备，其特征在于，用于清洗半导体电池基底，所述清洗设备包括：

用于清洗所述半导体电池基底的清洗工艺装置；

用于对清洗后的半导体电池基底进行干燥的烘干装置；

用于对烘干后的半导体电池基底进行吸水的吸水装置；所述吸水装置包括吸水台、吸水带、导入机构以及用于对所述吸水带进行干燥的吸水带干燥装置，所述导入机构用于控制所述吸水带通过所述吸水台的台面。

2.根据权利要求1所述的清洗设备，其特征在于，所述导入机构包括：同向转动的第一转动件和第二转动件，所述吸水台位于所述第一转动件和所述第二转动件之间；所述第一转动件用于向所述吸水台的台面提供吸水带；

所述第二转动件，用于将所述吸水带位于所述吸水台的台面的部位导出所述吸水台。

3.根据权利要求2所述的清洗设备，其特征在于，所述第一转动件为放卷辊；所述第二转动件为收卷辊；或，

所述吸水带为环状吸水带，所述第一转动件、所述第二转动件和所述吸水台的台面均位于所述环状吸水带所围成的环内区域，所述第一转动件和所述第二转动件同步驱动所述吸水带移动。

4.根据权利要求2所述的清洗设备，其特征在于，所述清洗设备还包括：控制器以及用于采集所述第一转动件图像的图像采集器，所述图像采集器与所述控制器通信连接，所述控制器与所述导入机构通信连接。

5.根据权利要求1所述的清洗设备，其特征在于，所述吸水带干燥装置包括至少一个干燥机构；和/或，

所述吸水带干燥装置包括多个干燥机构，多个所述干燥机构沿所述吸水带的带延伸方向分布。

6.根据权利要求5所述的清洗设备，其特征在于，至少一个所述干燥机构具有加热空间，所述吸水带贯穿所述加热空间；和/或，

至少一个所述干燥机构为挤压干燥组件，所述挤压干燥组件具有挤压空间，所述吸水带贯穿所述挤压空间。

7.根据权利要求1～6任一项所述的清洗设备，其特征在于，所述清洗设备还包括：控制器以及用于检测所述吸水带含水率的水分测量仪；所述水分测量仪与所述控制器通信连接，所述控制器与所述吸水带干燥装置通信连接；和/或，

所述清洗设备还包括水汽处理装置，所述水汽处理装置用于处理所述吸水带干燥装置干燥所述吸水带所产生的水汽；所述水汽处理装置包括排气装置或冷凝板。

8.根据权利要求1～6任一项所述的清洗设备，其特征在于，所述导入机构包括至少一个用于张紧所述吸水带的张紧组件，和/或，

所述导入机构包括至少一个用于限制所述吸水带偏移的纠偏组件。

9.根据权利要求1～6任一项所述的清洗设备，其特征在于，所述吸水带包括吸水层，所述吸水层为多孔式吸水带和/或亲水材料吸水带；所述吸水带还包括柔性基底，所述吸水层形成在所述柔性基底上；其中，

所述吸水层为一体式吸水层；或，

所述吸水层包括间隔形成在所述柔性基底上的吸水部。

10.根据权利要求1～6任一项所述的清洗设备，其特征在于，所述清洗设备还包括：用于搬运半导体电池基底的传送装置和/或用于将半导体电池基底搬运至所述吸水带位于所述吸水台的台面的部分上的至少一个搬运机器人；和/或，

所述烘干装置为槽式烘干装置或链式烘干装置；和/或，

所述清洗设备还包括：用于将半导体电池基底移出所述清洗设备的下料装置。