[实用新型]一种内置反应管分压式化学气相沉渗透镀膜装置有效
申请号: | 202021789654.4 | 申请日: | 2020-08-25 |
公开(公告)号: | CN213925007U | 公开(公告)日: | 2021-08-10 |
发明(设计)人: | 张智恒;易敏龙;陈兴;潘志豪 | 申请(专利权)人: | 香港生产力促进局 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/02 |
代理公司: | 北京汇泽知识产权代理有限公司 11228 | 代理人: | 武君 |
地址: | 中国香港九*** | 国省代码: | 香港;81 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 内置 反应 管分压式 化学 气相沉 渗透 镀膜 装置 | ||
1.一种内置反应管分压式化学气相沉渗透镀膜装置,包括双层石英管,双层石英管包括同轴固定设置的外层石英管(1)和内层石英管(2),所述内层石英管(2)短于外层石英管(1),所述双层石英管首端以第一管路(24)连接氩气气源(14),所述双层石英管末端以第二管路(22)连接真空泵(20),其特征在于,双层石英管从首端到末端依次包括等离子体反应区、第一加热区和第二加热区,内层石英管(2)和外层石英管(1)首端对齐,内层石英管(2)末端延伸至第二加热区,所述等离子体反应区于外层石英管(1)外设置有等离子极栅(9),等离子极栅(9)连接射频电源(10),内层石英管(2)末端连接用于卡固待渗透工件的套管氮化硼(15)及不锈钢固定管(16)达到与外层石英管(1)末端对齐,所述套管氮化硼(15)位于第二加热区。
2.根据权利要求1所述的一种内置反应管分压式化学气相沉渗透镀膜装置,其特征在于,所述双层石英管首端以第一真空法兰(11)与第一管路(24)连接,所述双层石英管与氩气气源(14)连接的第一管路(24)上依次设置气压计(12)和质量流量控制计(13)。
3.根据权利要求1所述的一种内置反应管分压式化学气相沉渗透镀膜装置,其特征在于,所述双层石英管末端以第二真空法兰(23)与第二管路(22)连接,所述双层石英管末端与真空泵(20)连接的第二管路(22)上依次设置有真空计(17)、真空调节阀(18)和净化器(19),所述真空泵(20)还设置有废气过滤器(21)。
4.根据权利要求1所述的一种内置反应管分压式化学气相沉渗透镀膜装置,其特征在于,所述套管氮化硼(15)具有卡固待渗透工件的卡固槽。
5.根据权利要求1所述的一种内置反应管分压式化学气相沉渗透镀膜装置,其特征在于,所述第一加热区于外层真空管外设置有第一红外线加热元件(4),第一红外线加热元件(4)连接第一温度传感器(8),所述第二加热区于外层真空管外设置有第二红外线加热元件(5),所述第二红外线加热元件(5)连接第二温度传感器(25)。
6.根据权利要求1所述的一种内置反应管分压式化学气相沉渗透镀膜装置,其特征在于,所述第一加热区于所述内层石英管(2)内设置有用于盛放前驱体的石英器皿(6)。
7.根据权利要求6所述的一种内置反应管分压式化学气相沉渗透镀膜装置,其特征在于,所述前驱体为有机铜化合物。
8.根据权利要求1所述的一种内置反应管分压式化学气相沉渗透镀膜装置,其特征在于,所述内层石英管(2)和外层石英管(1)之间设置有用于固定双层石英管的氮化硼支架(3)。
9.根据权利要求1所述的一种内置反应管分压式化学气相沉渗透镀膜装置,其特征在于,所述第一加热区和第二加热区之间的距离为50mm-70mm。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的