[实用新型]废气入口结构、等离子反应模块以及废气处理设备

说明书

本实用新型提供一种废气入口结构、等离子反应模块以及废气处理设备，废气入口结构包括：耐火块体，耐火块体内部设有中空通道；至少两个进气管道，所有的进气管道穿入耐火块体，每个进气管道的出气口与中空通道的侧面连通；每个进气管道的出气口为向下设置；耐火块体的上表面设有上安装部，耐火块体的下表面设有下安装部。本实用新型废气经过所有的进气管道的引导后，能够直接到达中空通道的火焰外焰，保证废气能够充分燃烧；另外，由于废气能够直接到达中空通道的火焰外焰，所以也就避免了进气管道中出现堵塞现象。

技术领域

本实用新型涉及废气处理技术领域，特别是涉及一种废气入口结构、等离子反应模块以及废气处理设备。

背景技术

在半导体、面板显示器、LED、太阳能等领域中，化学气相沉积、刻蚀、离子注入、扩散等生产工序过程中都会产生工艺废气。以半导体制造为例，其设备在生产时排放的气体可以分为如下三类：第一类是易燃易爆气体，如氢气、甲烷、硅烷等；第二类是有毒腐蚀性气体，如砷化氢、磷化氢、三氟化硼、三氟化氮、四氟化硅、氯气、氟化氢、氟气、氨气等；第三类是温室效应气体，如氢氟碳化合物、全氟碳化合物、甲烷、一氧化二氮、六氟化硫等。这些气体不仅污染环境，还会对人直接造成伤害，因此这些气体在排放到周围环境之前必须得到有效处理。目前，常用的废气处理方式包括“电加热分解液淋式”、“燃气燃烧液淋式”、和“等离子水洗式”等，都是先将废气处理成稳定的副生物，然后在液淋区进行液淋冲洗。

如图1所示，等离子水洗式的废气处理装置包括点火装置100和反应腔200，点火装置100安装于反应腔200的顶部，点火装置100中央的喷火口101对准反应腔200中部的火焰燃烧通道201，火焰燃烧通道201的外部与反应腔200的内壁之间是气体容纳腔202，火焰燃烧通道201的顶部与气体容纳腔202之间连通，气体容纳腔202与点火装置100上的废气进口102连通。点火装置100喷出的火焰在火焰燃烧通道201中持续燃烧，废气通过废气进口102进入气体容纳腔202中，由于火焰燃烧通道201的顶部与气体容纳腔202之间连通，所以，废气要通过火焰燃烧通道201的顶部才能进行燃烧，燃烧后的废气通过火焰燃烧通道201向下排出；而废气通过废气进口102进入气体容纳腔202中后，是会向着气体容纳腔202的底部移动的，这就使得废气无法快速移动到火焰燃烧通道201的顶部，因此废气会在废气进口102以及气体容纳腔202的底部堆积，反应腔200中持续燃烧的火焰使得反应腔200内部的温度较高，废气进口102所堆积的废气中的气体分子会反生化学反应，形成固体颗粒物，使得废气进口102被堵塞。另外，由于反应腔200工作时内部温度达到2000℃，导致废气进口102无法直接伸进反应腔200中，所以工艺废气就无法准确送达点火装置100的喷火口101喷出的火焰处充分燃烧。

实用新型内容

鉴于以上所述现有技术的缺点，本实用新型要解决的技术问题在于提供一种能够使得废气能够充分燃烧且避免进气管道中出现堵塞现象的废气入口结构、等离子反应模块以及废气处理设备。

为实现上述目的，本实用新型实施例提供一种废气入口结构，包括：耐火块体，所述耐火块体内部设有中空通道，所述中空通道与所述耐火块体的上表面和所述耐火块体的下表面连通；至少两个进气管道，所有的所述进气管道穿入所述耐火块体，每个所述进气管道的出气口与所述中空通道的侧面连通；每个所述进气管道的出气口为向下设置；所述耐火块体的上表面设有上安装部，所述耐火块体的下表面设有下安装部。

点火装置是安装于耐火块体的上部的，所以点火装置形成的火焰在中空通道中是朝向下方的；每个进气管道的出气口为向下设置，废气经过所有的进气管道的引导后，能够直接到中空通道的火焰外焰，保证废气能够充分燃烧，有效避免出现多股废气产生的气流吹动火焰，而使得部分废气无法达到火焰外焰的情况；另外，由于废气能够直接到达中空通道的火焰外焰，所以也就避免了进气管道中出现堵塞现象。