[实用新型]离子源和离子布植机有效

专利信息
申请号: 202021803296.8 申请日: 2020-08-25
公开(公告)号: CN212570920U 公开(公告)日: 2021-02-19
发明(设计)人: 杨学人 申请(专利权)人: 泉芯集成电路制造(济南)有限公司
主分类号: H01J37/08 分类号: H01J37/08;H01J37/317
代理公司: 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 代理人: 刘曾
地址: 250000 山东省济南市*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 离子源 离子 布植机
【权利要求书】:

1.一种离子源,其特征在于,包括用于源气体电离的腔室和用于发射热电子的阴极,所述腔室上开设有用于容置所述阴极的开口部,所述阴极的表面与所述开口部的内缘相对应的部分为缩进的弧面结构,所述弧面结构与所述开口部的内缘之间具有间隙。

2.根据权利要求1所述的离子源,其特征在于,所述阴极包括灯丝和阴极罩,所述阴极罩至少部分容置在所述开口部内,所述弧面结构位于所述阴极罩与所述开口部的内缘相对应的部位,所述灯丝容置在所述阴极罩内。

3.根据权利要求2所述的离子源,其特征在于,所述阴极罩具有相对的头部和尾部,所述头部容置在所述开口部内,所述尾部设置在所述腔室外,且所述头部的端面与所述腔室的内壁面相平齐,所述弧面结构位于所述头部的边缘。

4.根据权利要求3所述的离子源,其特征在于,所述弧面结构为外凸弧面。

5.根据权利要求2所述的离子源,其特征在于,所述阴极罩具有相对的头部和尾部,所述尾部容置在所述开口部内,所述头部设置在所述腔室内,所述尾部的端面与所述腔室的外壁面相平齐,所述弧面结构位于所述尾部的边缘。

6.根据权利要求5所述的离子源,其特征在于,所述弧面结构为内凹弧面。

7.根据权利要求3或5所述的离子源,其特征在于,所述开口部的口径由所述腔室外向所述腔室内的方向逐渐增大。

8.根据权利要求1所述的离子源,其特征在于,所述腔室内还设置有反射极,所述反射极与所述阴极相对设置。

9.根据权利要求1所述的离子源,其特征在于,所述腔室上还开设有用于提供源气体的气体入口和用于导出离子的提取出口。

10.一种离子布植机,其特征在于,包括气体源和如权利要求1-9任一项所述的离子源,所述气体源与所述腔室连接,用于向所述腔室内供入源气体。

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