[实用新型]一种炉管配件清洗装置

说明书

本实用新型涉及一种炉管配件清洗装置，所属半导体硅片加工设备清洗技术领域，包括清洗槽，所述的清洗槽上方设有上机架，所述的上机架与清洗槽间设有长清洗网笼和短清洗网笼，所述的长清洗网笼与上机架间、短清洗网笼与上机架间均设有升降气缸，所述的升降气缸与上机架间设有与上机架相螺栓连接固定的横移轨道，所述的横移轨道与升降气缸间均设有与横移轨道相插嵌式位移连接的横移气缸。具有结构简单、操作方便和运行稳定性好的特点。解决了清洗液浪费的问题。实现合理使用清洗液用量，避免加工成本的损耗。防止了在清洗过程中任意漂浮出现碰撞现象损坏配件。

技术领域

本实用新型涉及半导体硅片加工设备清洗结构技术领域，具体涉及一种炉管配件清洗装置。

背景技术

在高温热处理过程中，为避免硅片受到外界环境的污染，定期清洗炉管是很有必要的。目前高温炉管及配件清洗均在同一个炉管洗净机中进行，其中需要用到HNO3，HF酸和纯水。值得注意的是使用的HNO3和HF酸价格昂贵，大约几十块每升左右。

炉管洗净机的容量只是针对炉管清洗而设计的。每次清洗炉管，大约需要将液位调节至250L至300L左右，才足以浸没炉管。以Ar炉为例，其中除了炉管需要清洗之外，SiC舟、石英Cap也是需要清洗的。此时，将一只体积远小于炉管清洗机的石英Cap放入其中，酸溶液的液位仍需调节至250L至300L，才能够将Cap完全浸没，其中有大于一半的酸溶液是多余的，若使用体积合适的清洗槽来清洗Cap，换算成成本的话，大约每清洗一次可以节省几百元。

从另一方面考虑，当清洗液注入到一定体积之后，类似石英Cap这种配件会漂浮起来，在清洗过程中难免发生碰撞。

发明内容

本实用新型主要解决现有技术中存在运行稳定性差和清洗液浪费的不足，提供了一种炉管配件清洗装置，其具有结构简单、操作方便和运行稳定性好的特点。解决了清洗液浪费的问题。实现合理使用清洗液用量，避免加工成本的损耗。防止了在清洗过程中任意漂浮出现碰撞现象损坏配件。

本实用新型的上述技术问题主要是通过下述技术方案得以解决的：

一种炉管配件清洗装置，包括清洗槽，所述的清洗槽上方设有上机架，所述的上机架与清洗槽间设有长清洗网笼和短清洗网笼，所述的长清洗网笼与上机架间、短清洗网笼与上机架间均设有升降气缸，所述的升降气缸与上机架间设有与上机架相螺栓连接固定的横移轨道，所述的横移轨道与升降气缸间均设有与横移轨道相插嵌式位移连接的横移气缸。

作为优选，所述的清洗槽包括清洗箱体，所述的清洗箱体内设有分隔门，所述的分隔门一端与清洗箱体内壁间设有转轴。

作为优选，所述的清洗箱体下端设有一对位于分隔门两端的进液管，所述的进液管与清洗箱体间设有若干与清洗箱体相贯穿式连通的喷洗管。

作为优选，所述的进液管上设有与进液管相螺纹式套接的进液阀，所述的进液阀与喷洗管间设有与进液管相法兰式密封连接的单向阀。

作为优选，所述的清洗箱体一侧边下部设有一对位于分隔门两端的排液管，所述的排液管上设有与排液管相螺纹式套接的排液阀。

作为优选，所述的横移轨道两端均设有与横移气缸相活动式触接的止位块。

本实用新型能够达到如下效果：

本实用新型提供了一种炉管配件清洗装置，与现有技术相比较，具有结构简单、操作方便和运行稳定性好的特点。解决了清洗液浪费的问题。实现合理使用清洗液用量，避免加工成本的损耗。防止了在清洗过程中任意漂浮出现碰撞现象损坏配件。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图。

图2是本实用新型中的清洗槽的结构示意图。