[实用新型]防闩锁高密度元胞功率半导体器件结构有效

专利信息
申请号: 202021816771.5 申请日: 2020-08-27
公开(公告)号: CN213150777U 公开(公告)日: 2021-05-07
发明(设计)人: 朱袁正;周锦程;王根毅;周永珍 申请(专利权)人: 无锡新洁能股份有限公司
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06;H01L21/8232
代理公司: 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙) 32104 代理人: 曹祖良;涂三民
地址: 214131 江苏省无锡市滨湖区高浪东路999号*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 防闩锁 高密度 功率 半导体器件 结构
【权利要求书】:

1.一种防闩锁高密度元胞功率半导体器件结构,它包括漏极金属(1)、位于漏极金属(1)上方的第一导电类型衬底(2)及位于第一导电类型衬底(2)上方的第一导电类型外延层(3),在第一导电类型外延层(3)的上表面设置第二导电类型体区(8),在第二导电类型体区(8)的上表面设置互相平行的沟槽(4),所述沟槽(4)穿透第二导电类型体区(8)进入第一导电类型外延层(3)内,在沟槽(4)的侧壁以及底面设有栅氧层(5),在栅氧层(5)内设有栅极导电多晶硅(6),在栅氧层(5)与栅极导电多晶硅(6)的上方设有绝缘介质层(7);

其特征是:在对应于相邻沟槽(4)之间的第二导电类型体区(8)的上表面两侧设有第一导电类型源区(9)并在位于第一导电类型源区(9)之间的第二导电类型体区(8)内设有呈间隔块状设置的第二导电类型阱区(10),第二导电类型阱区(10)的侧面与第一导电类型源区(9)的侧面相接,在绝缘介质层(7)、第二导电类型体区(8)、第一导电类型源区(9)与第二导电类型阱区(10)的上方设有源极金属(11),源极金属(11)与绝缘介质层(7)、第二导电类型体区(8)、第一导电类型源区(9)以及第二导电类型阱区(10)接触。

2.根据权利要求1所述的防闩锁高密度元胞功率半导体器件结构,其特征是:所述第一导电类型源区(9)的上表面与第二导电类型阱区(10)的上表面平齐,第一导电类型源区(9)的下表面位于栅极导电多晶硅(6)的上表面的下方,重掺杂第二导电类型阱区(10)的下表面位于第一导电类型源区(9)的下表面的上方。

3.根据权利要求1所述的防闩锁高密度元胞功率半导体器件结构,其特征是:所述第二导电类型阱区(10)的杂质掺杂浓度低于第一导电类型源区(9)的杂质掺杂浓度。

4.根据权利要求1所述的防闩锁高密度元胞功率半导体器件结构,其特征是:对于N型功率半导体器件,所述第一导电类型为N型导电,所述第二导电类型为P型导电;对于P型功率半导体器件,所述第一导电类型为P型导电,所述第二导电类型为N型导电。

5.根据权利要求1所述的防闩锁高密度元胞功率半导体器件结构,其特征是:在位于相邻沟槽(4)之间的第二导电类型体区(8)内的相邻第二导电类型阱区(10)的中心间距为0.1微米至100微米。

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