[实用新型]连续镀膜设备

说明书

本实用新型公开了一种连续镀膜设备，包括壳体、传输装置和控制装置，传输装置包括传送轮和传送带，传送轮设于壳体两侧，传送带一端贯穿于壳体内部，壳体内依次设有进片室、缓冲室、镀膜室、冷却清洁室和出片室，缓冲室内设有清洁装置和非真空加热装置，镀膜室一侧设有真空泵，镀膜室两端分别与缓冲室、冷却清洁室密封连接，冷却清洁室设有清洁装置和冷却装置，出片室设有对工件表面镀膜进行检测的检测装置；控制装置用于控制清洁装置、非真空加热装置、真空泵、冷却装置、检测装置及传输装置协同工作。本实用新型可以实现连续镀膜，且工作效率高，操作方便，自动化程度高，具有强的实用性，适合推广使用。

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜设备技术领域，尤其涉及一种连续镀膜设备。

背景技术

真空镀膜设备，主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。目前，现有的连续镀膜生产线存在生产效率低下的问题。为此，我们提出一种高效智能连续镀膜设备。

实用新型内容

为解决上述缺陷，本实用新型的目的是在于提供一种工作效率高，操作方便，自动化程度高的连续镀膜设备。

为实现上述目的，本实用新型通过以下技术方案实现：一种连续镀膜设备，包括壳体、传输装置和控制装置，所述传输装置包括传送轮和传送带，所述传送轮设于壳体两侧，所述传送带设于传送轮表面，且所述传送带一端贯穿于壳体内部，所述壳体内依次设有进片室、缓冲室、镀膜室、冷却清洁室和出片室，所述缓冲室内设有清洁装置和非真空加热装置，所述镀膜室一侧设有真空泵，所述镀膜室两端分别与缓冲室、冷却清洁室密封连接，所述冷却清洁室设有清洁装置和冷却装置，所述出片室设有对工件表面镀膜进行检测的检测装置；所述控制装置用于控制清洁装置、非真空加热装置、真空泵、冷却装置、检测装置及传输装置协同工作。

优选的，所述缓冲室内有清洁刷、加热器以及温度控制器，所述缓冲室侧壁设有保温层。

优选的，所述冷却清洁室内设有风扇、换热器和清洁刷。

优选的，所述真空泵固定于壳体一侧，所述真空泵的抽风口通过法兰盘与抽气管的一端固定连接，所述抽气管的另一端延伸至镀膜室内部。

优选的，所述镀膜室上设有进气装置和充气阀。

本实用新型的有益效果：设置的进片室、缓冲室、镀膜室、冷却清洁室和出片室可以实现连续镀膜，且工作效率高，操作方便，自动化程度高，具有强的实用性，适合推广使用。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

其中：1、壳体，2、传输装置，3、真空泵，11、进片室，12、缓冲室，13、镀膜室，14、冷却清洁室，15、出片室，121、清洁刷Ⅰ，122、加热器，123、温度控制器，131、进气装置，132、充气阀，141、风扇，142、换热器，143、清洁刷Ⅱ，21、传送轮，22、传送带。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

如图1所示，一种连续镀膜设备，包括壳体1、传输装置2和控制装置。

传输装置2包括传送轮21和传送带22，传送轮21设于壳体1两侧，传送带22设于传送轮21表面，且传送带22一端贯穿于壳体1内部。传输装置2用于运输需要镀膜的工件，速度平稳、易于控制。