[实用新型]一种旋转钼靶材的表面处理装置

权利要求书

1.一种旋转钼靶材的表面处理装置，包括平台（1），所述平台（1）的底部四角均固接有底座（2），所述平台（1）的顶部加工有滑槽（3），所述平台（1）的顶部左右两侧均固接有支杆（4），两个所述支杆（4）的顶部固接有横板（5），其特征在于：所述横板（5）的顶部设有处理机构（6）；

所述处理机构（6）包括滑套（601）、滑杆（602）、电机（603）、磨盘（604）、推杆（605）、输出杆（606）和第一杆体（607）；

所述滑套（601）连通于横板（5）的顶部，所述滑套（601）的内壁滑动相连有滑杆（602），所述滑杆（602）的顶部固接有电机（603），所述电机（603）的输出端固接有磨盘（604），两个所述推杆（605）分别固接于横板（5）的顶部左右两侧，两个所述推杆（605）的输出杆（606）的一端分别通过连接轴转动相连有第一杆体（607），两个所述第一杆体（607）的顶部分别通过连接轴与滑杆（602）的外壁左右两侧转动相连。

2.根据权利要求1所述的一种旋转钼靶材的表面处理装置，其特征在于：两个所述第一杆体（607）关于滑杆（602）轴对称分布。

3.根据权利要求1所述的一种旋转钼靶材的表面处理装置，其特征在于：所述平台（1）的顶部左右两侧均设有固定机构（7）；

所述固定机构（7）包括第一横杆（701）、第二横杆（702）、弧形板（703）、橡胶垫（704）和滑轮（705）；

两个所述第一横杆（701）分别固接于平台（1）的顶部左右两侧，两个所述第一横杆（701）的内壁间隙配合有第二横杆（702），两个所述第二横杆（702）的外壁一端均固接有弧形板（703），两个所述弧形板（703）的弧形槽均固接有橡胶垫（704），两个所述弧形板（703）的底部均通过连接轴转动相连有滑轮（705），两个所述滑轮（705）的外壁与滑槽（3）的内壁滑动相连。

4.根据权利要求3所述的一种旋转钼靶材的表面处理装置，其特征在于：所述滑轮（705）和滑槽（3）构成滑动限位结构。

5.根据权利要求3所述的一种旋转钼靶材的表面处理装置，其特征在于：两个所述第一横杆（701）的顶部均设有调节机构（8）；

所述调节机构（8）包括螺杆（801）、手柄（802）、套筒（803）和第二杆体（804）；

两个所述螺杆（801）分别通过轴承与两个第一横杆（701）的顶部转动相连，两个所述螺杆（801）的顶部均固接有手柄（802），所述螺杆（801）的外壁螺纹相连有套筒（803），所述套筒（803）通过连接轴转动相连有第二杆体（804），所述第二杆体（804）通过连接轴与第二横杆（702）的顶部转动相连。

6.根据权利要求5所述的一种旋转钼靶材的表面处理装置，其特征在于：所述手柄（802）的表面加工有磨纹。