[实用新型]一种用于液氦温区输入端口可外匹配的单片低噪声放大器有效

专利信息
申请号: 202021848652.8 申请日: 2020-08-28
公开(公告)号: CN212278201U 公开(公告)日: 2021-01-01
发明(设计)人: 何川;王生旺;王自力;张诚;刘盼盼 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第十六研究所
主分类号: H03F1/42 分类号: H03F1/42
代理公司: 合肥天明专利事务所(普通合伙) 34115 代理人: 苗娟
地址: 230088 安徽*** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 用于 液氦温区 输入 端口 匹配 单片 低噪声放大器
【权利要求书】:

1.一种用于液氦温区输入端口可外匹配的单片低噪声放大器,其特征在于:

包括输入端匹配电路、能够工作在零下269摄氏度的宽频带单片低噪声放大电路,所述输入端匹配电路与宽频带的单片低噪声放大电路级联;

输入端匹配电路包括通过电容C1、电容C2,电感L1、电阻R1、微带线TL7、微带线TL8和栅极偏置电路,微带线TL8和单片电路PAD1通过一条直径25μm,长度350μm至400μm的金丝连接。

2.根据权利要求1所述的用于液氦温区输入端口可外匹配的单片低噪声放大器,其特征在于:所述宽频带单片低噪声放大电路包括第一级mHEMT管T1,第二级mHEMT管T2,第三级mHEMT管T3,第一级mHEMT管T1的栅极通过PAD1连接输入端匹配电路,源极通过微带线TL1和TL2接地,漏极通过级间匹配电路与第二级mHEMT管T2连接,第二级mHEMT管T2的源极通过微带线TL3和TL4接地,漏极通过级间匹配电路与第三级mHEMT管T3连接,第三级mHEMT管T3的栅极连接输入端匹配电路,源极通过微带线TL5和TL6接地,漏极通过输出匹配电路与输出端口PAD2连接。

3.根据权利要求2所述的用于液氦温区输入端口可外匹配的单片低噪声放大器,其特征在于:所述第一级mHEMT管T1的栅宽为2×100μm,第二级mHEMT管T2栅宽为2×50μm,第三级mHEMT管T3栅宽为2×50μm。

4.根据权利要求3所述的用于液氦温区输入端口可外匹配的单片低噪声放大器,其特征在于:所述三级mHEMT管T1、T2、T3的栅极和漏极分别由B1~B6组成的偏置电路独立供电。

5.根据权利要求4所述的用于液氦温区输入端口可外匹配的单片低噪声放大器,其特征在于:

所述输入端匹配电路的电容元件选用芯片电容,电容C1值为12pF,电容C2值为33pF;

所述输入端匹配电路的电感元件为空芯线圈电感,电感L1值为39nH;

所述输入端匹配电路的电阻元件选用芯片电阻,电阻R1值为20Ω;微带线TL7、微带线TL8的阻抗都为50Ω。

6.根据权利要求5所述的用于液氦温区输入端口可外匹配的单片低噪声放大器,其特征在于:

所述宽频带单片低噪声放大电路采用130nm砷化镓GaAs基工艺,电路标准厚度为100μm。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国电子科技集团公司第十六研究所,未经中国电子科技集团公司第十六研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202021848652.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top