[实用新型]一种稳定加入盐酸的装置有效
申请号: | 202021852804.1 | 申请日: | 2020-08-31 |
公开(公告)号: | CN213507280U | 公开(公告)日: | 2021-06-22 |
发明(设计)人: | 徐建平;黄永发;杨帆 | 申请(专利权)人: | 江西省江铜耶兹铜箔有限公司 |
主分类号: | C25D21/14 | 分类号: | C25D21/14;C25D17/00;C25D3/38 |
代理公司: | 南昌金轩知识产权代理有限公司 36129 | 代理人: | 石红丽 |
地址: | 330000 江西省南昌市*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 稳定 加入 盐酸 装置 | ||
本实用新型公开了一种稳定加入盐酸的装置,涉及电镀技术领域,包括储液箱和溶铜罐,储液箱通过加液管与溶铜罐相连,储液箱底部安装有添加装置,添加装置包括阻挡板,支撑杆下方活动安装有取液盒,取液盒底部连通有出液管道,出液管道底端开设有出液口,活动杆底端活动连接有凸轮机构;溶铜罐内设置有缓冲机构;本实用新型通过凸轮机构带动取液盒上下移动实现从储液箱中取出盐酸溶液并当出液管道的出液口与进液管位置相匹配时,从进液管内流出,达到了对盐酸溶液流量的控制,实现定量自动添加盐酸溶液的效果;加液管中的盐酸溶液通过溶铜罐中的缓冲机构的通孔,实现对盐酸溶液进行分流,能够避免大量的盐酸溶液添加时对罐内溶液造成较大冲击。
技术领域
本实用新型涉及电镀技术领域,具体涉及一种稳定加入盐酸的装置。
背景技术
生箔硫酸铜电镀液中,因连续不断的电解消耗,溶液中的氯离子含量会逐步下降,当低于一定浓度时会大大影响生箔电镀的效果,劣化生箔毛面结晶形貌和铜箔物理性能,传统的氯离子补充方法是采用直接用烧杯装入一定量的盐酸,倒入溶铜罐,这种方法虽然能提高氯离子含量,但瞬间倾倒加入,给溶液氯离子含量带来不稳定性。此外,因为人工添加对盐酸的量的多少没有把握,所以导致投入的盐酸过多或者过少。
发明内容
为解决现有技术问题,本实用新型通过凸轮机构带动取液盒上下移动实现从储液箱中取出盐酸溶液并当出液管道的出液口与进液管位置相匹配时,从进液管内流出,达到了对盐酸溶液流量的控制,实现定量自动添加盐酸溶液的效果;加液管中的盐酸溶液通过溶铜罐中的缓冲机构的通孔,实现对盐酸溶液进行分流,能够避免大量的盐酸溶液添加时对罐内溶液造成较大冲击。
本实用新型具体采用以下技术方案:
一种稳定加入盐酸装置,包括存储有盐酸溶液的储液箱和位于所述储液箱下方的溶铜罐,所述储液箱通过加液管与所述溶铜罐相连,所述储液箱的底部安装有添加装置,所述添加装置的一侧下方与所述加液管相连通;
所述添加装置包括阻挡板,所述阻挡板活动安装在所述储液箱内底部,所述阻挡板的底部固定连接有支撑杆,所述支撑杆的正下方活动安装有取液盒,所述取液盒的顶部左右两端均固定安装有缓冲块,所述取液盒的底部中端连通有出液管道,所述出液管道的底部活动连接有滑槽块,所述出液管道的底端右侧开设有出液口,所述出液管道的底端活动连接有活动杆,所述活动杆的底部套设有缓冲弹簧,所述活动杆的底端活动连接有凸轮机构;
所述溶铜罐内设置有缓冲机构,所述缓冲机构包括上缓冲板、下缓冲板、连接板以及安装筒,所述连接板为筒状,所述连接板的上、下两端分别连接所述上缓冲板和所述下缓冲板,所述连接板的侧壁上还预留多个供液体排出的通孔;所述上缓冲板上还预留供所述加液管通过的加液口,所述安装筒设置于所述加液口处,所述安装筒的内壁设置有内螺纹,所述加液管的下端外壁设置有外螺纹,所述外螺纹与所述内螺纹相配合,所述加液管的下端位于所述上缓冲板和所述下缓冲板之间。
进一步的方案是,所述储液箱的底部中端开设有通槽,所述阻挡板活动安装在所述通槽的顶部,所述阻挡板的面积大于所述通槽的面积。
进一步的方案是,所述滑槽块内活动连接有所述出液管道,所述出液口的直径与所述加液管的端口直径相匹配。
进一步的方案是,所述活动杆贯穿所述滑槽块并延伸至所述凸轮机构,所述滑槽块的底部活动连接有所述缓冲弹簧。
进一步的方案是,所述下缓冲板上还设有一半球形的凹面,所述凹面设置于所述加液管的下方,所述凹面的开口方向朝向所述加液管。
进一步的方案是,所述溶铜罐的侧壁还设有缓冲槽,所述缓冲槽的首、尾两端还在所述溶铜罐的侧壁上相互连接,所述缓冲槽的开口方向朝向所述溶铜罐的罐内。
进一步的方案是,所述连接板设置于所述缓冲槽的槽内。
本实用新型的有益效果:
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