[实用新型]塔式A/O反应器

权利要求书

1.一种塔式A/O反应器，其特征在于，从上至下包括呈塔状布置的四层区域，各区域内均填充有填料(1)，其中第一层缺氧单元(2)位于顶部，第二层缺氧单元(3)位于第一层缺氧单元(2)的下方，第三层好氧单元(4)位于第二层缺氧单元(3)的下方，第四层好氧和沉淀单元(5)位于第三层好氧单元(4)的下方；

所述第四层好氧和沉淀单元(5)包括中部氧化区(6)和两侧沉淀区(7)，氧化区(6)与沉淀区(7)之间通过隔板(8)进行分隔，隔板(8)的下端开设多个过水孔一(9)；在中部氧化区(6)底部设置有提升泵(10)，提升泵(10)吸水口与从反应器外部穿过一侧沉淀区(7)伸入中部氧化区(6)的污水进水管(11)相对设置；

提升泵(10)的出水端与反应器内部设置的中心管(12)下端进水口连通，所述中心管(12)依次穿过第三层好氧单元(4)和第二层缺氧单元(3)后，进入第一层缺氧单元(2)，中心管(12)上端封口，其与第一层缺氧单元(2)下部处于同一高度的管壁上开设多个出水孔一(13)；

第一层缺氧单元(2)顶部内壁上环设出水堰(14)，出水堰(14)下端连通多根中空管(15)，中空管(15)的下端穿设第一层缺氧单元(2)底部伸入第二层缺氧单元(3)底部，并在中空管(15)的下部管壁上开设多个出水孔二(16)；

所述第二层缺氧单元(3)顶部与第一层缺氧单元(2)底部之间的间距为15cm～35cm；

所述的第三层好氧单元(4)的顶部与第二层缺氧单元(3)底部之间的间距为15cm～50cm；

所述的第四层好氧和沉淀单元(5)顶部与第三层好氧单元(4)底部之间的间距为30cm～60cm。

2.根据权利要求1所述的一种塔式A/O反应器，其特征在于，所述的第三层好氧单元(4)内设有从上向下呈聚合趋势倾斜的漏斗状导流板(17)，将第三层好氧单元(4)分为内部和外部两个区域，导流板(17)上安装有穿孔花墙，导流板(17)的上端位于第二层缺氧单元(3)落水点的外侧，并伸出第三层好氧单元(4)顶部，下端开设有过水孔二(18)。

3.根据权利要求1或2所述的一种塔式A/O反应器，其特征在于，所述的过水孔一(9)的间距为40±5cm，过水孔一(9)的直径不小于20cm，过水孔一(9)的形状为圆形、方形或椭圆形。

4.根据权利要求3所述的一种塔式A/O反应器，其特征在于，第二层缺氧单元(3)与第一层缺氧单元(2)的形状尺寸相同且对应设置。

5.根据权利要求2所述的一种塔式A/O反应器，其特征在于，所述的导流板(17)上端伸出第三层好氧单元(4)顶部的高度不小于40cm，过水孔二(18)的形状为圆形、方形或椭圆形。