[实用新型]掩模板有效
申请号: | 202021857848.3 | 申请日: | 2020-08-31 |
公开(公告)号: | CN212965743U | 公开(公告)日: | 2021-04-13 |
发明(设计)人: | 周世均;王晓龙;宋海生 | 申请(专利权)人: | 上海华力微电子有限公司 |
主分类号: | G03F1/54 | 分类号: | G03F1/54;G03F1/64;G03F1/40;G03F7/20 |
代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人: | 王江富 |
地址: | 201203 *** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 模板 | ||
1.一种掩模板,其特征在于,其包括透光基板(1)、吸光膜(2)及掩模保护膜(3);
所述透光基板(1)的下侧面中间区域为图形区(22),外围区域为接触区域(21);
图形区(22)及接触区域(21)分别覆盖有相应形状的吸光膜(2);
图形区(22)同接触区域(21)之间的吸光膜(2)断开并构成一防静电环(6);
所述掩模保护膜(3)为透明薄膜,蒙贴在一个掩模板保护膜框(4)的下侧;
所述掩模板保护膜框(4)不透光;
所述掩模板保护膜框(4)上端的形状同所述防静电环(6)一致;
所述掩模板保护膜框(4)上端的壁厚大于或等于防静电环(6)的线宽度;
所述掩模板保护膜框(4)上端对应于所述防静电环(6)粘贴在透光基板(1)下侧面,遮挡所述防静电环(6)。
2.根据权利要求1所述的掩模板,其特征在于,
所述透光基板(1)为石英玻璃板。
3.根据权利要求1所述的掩模板,其特征在于,
所述吸光膜(2)为铬膜或者硅化钼膜。
4.根据权利要求1所述的掩模板,其特征在于,
所述掩模板保护膜框(4)为铝合金框架。
5.根据权利要求1所述的掩模板,其特征在于,
所述掩模保护膜(3)的透光率大于90%。
6.根据权利要求1所述的掩模板,其特征在于,
所述掩模板保护膜框(4)上端的壁厚为防静电环(6)的线宽度的1到1.2倍。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华力微电子有限公司,未经上海华力微电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202021857848.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种隧道施工送料辅助结构
- 下一篇:一种具有控制面板的冰吧抽屉及抽屉式冰吧
- 同类专利
- 专利分类
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备