[实用新型]一种靶材高使用率的平面阴极有效

专利信息
申请号: 202021881377.X 申请日: 2020-09-01
公开(公告)号: CN213624354U 公开(公告)日: 2021-07-06
发明(设计)人: 李忠 申请(专利权)人: 成都齐荣科技有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 610100 四川省成都市经济技*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 靶材高 使用率 平面 阴极
【权利要求书】:

1.一种靶材高使用率的平面阴极,其特征在于,包括屏蔽板、磁钢组件和靶材固定件,所述的屏蔽板的下端面设置屏蔽槽,所述磁钢组件设置在屏蔽槽内,所述磁钢组件包括安装座、靶壳和磁体,所述安装座固定在屏蔽槽的上壁,靶壳位于安装座的下方,安装座的下端设置有两条轨道板,轨道板位于靶壳两侧,轨道板朝向靶壳的侧壁上设置有轨道槽,轨道槽的延伸方向与轨道板一致,轨道槽中设置有齿条,靶壳的上端两侧分别固定有若干电机,所述电机的机轴上设置有与齿条啮合的齿轮,靶壳通过电机支撑安装在安装座下方,靶壳下方设置有磁体,所述磁体的延伸方向与轨道槽垂直,靶材固定件安装在屏蔽槽槽口处,靶材固定件包括背板和压板,所述背板完全遮挡屏蔽槽,所述压板位于背板下方,所述压板和背板贴合后形成靶材固定槽。

2.如权利要求1所述的一种靶材高使用率的平面阴极,其特征在于,所述安装座和屏蔽板之间设置有绝缘板。

3.如权利要求1所述的一种靶材高使用率的平面阴极,其特征在于,所述靶壳下端设置有磁体槽,磁体槽的上顶壁设置有磁座,所述磁体吸附在磁座的下方。

4.如权利要求1所述的一种靶材高使用率的平面阴极,其特征在于,所述背板与屏蔽板之间设置有水槽板,所述水槽板中设置有冷却水孔。

5.如权利要求1所述的一种靶材高使用率的平面阴极,其特征在于,所述背板与屏蔽板之间设置有水槽板,所述水槽板对向背板的端面上设置有冷却水槽,所述水槽板与背板贴合后,使得冷却水槽形成孔状。

6.如权利要求5所述的一种靶材高使用率的平面阴极,其特征在于,所述水槽板与背板之间设置有密封条,所述的密封条围绕冷却水槽一圈。

7.如权利要求4~6任一所述的一种靶材高使用率的平面阴极,其特征在于,所述水槽板、背板和压板都通过螺钉固定在屏蔽板上,螺钉依次穿过压板、背板、水槽板与屏蔽板连接固定。

8.如权利要求1所述的一种靶材高使用率的平面阴极,其特征在于,所述压板包括两条,两条压板分别位于背板下方的两侧,两个压板和背板之间形成一个阶梯状的靶材固定槽。

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