[实用新型]一种大批量的真空镀膜基片清洗装置

权利要求书

1.一种大批量的真空镀膜基片清洗装置，其特征在于：包括超声波清洗箱（1）、升降驱动装置（2）和基片清洗夹具（3），所述升降驱动装置（2）设置在超声波清洗箱（1）上，所述基片清洗夹具（3）设置在升降驱动装置（2）上，所述升降驱动装置（2）可驱动基片清洗夹具（3）浸入超声波清洗箱（1）内；

其中，所述基片清洗夹具（3）包括清洗上板（31）、清洗中板（32）和清洗下板（33），所述清洗上板（31）、清洗中板（32）和清洗下板（33）按照由上至下的顺序依次设置，并且清洗上板（31）、清洗中板（32）和清洗下板（33）通过螺钉固定连接，所述清洗上板（31）、清洗中板（32）和清洗下板（33）的截面均为正方形，所述清洗上板（31）、清洗中板（32）和清洗下板（33）均划分为“田”字格结构，所述清洗上板（31）和清洗下板（33）的每个“田”字格区域内均设有一组圆形通孔（34），所述清洗中板（32）的每个“田”字格区域内均设有一组清洗槽（35），所述一组清洗槽（35）之间设有连接通道（36），所述一组清洗槽（35）呈蜂窝状设置，所述清洗槽（35）内可设置基片。

2.根据权利要求1所述的大批量的真空镀膜基片清洗装置，其特征在于：所述一组圆形通孔（34）呈矩形阵列的方式设置，所述清洗槽（35）的截面为正六边型，并且清洗槽（35）的截面积大于基片的截面积。

3.根据权利要求1所述的大批量的真空镀膜基片清洗装置，其特征在于：所述升降驱动装置（2）包括升降驱动组件（21）、两个支撑腿（22）、支撑平台（23）、两个对称设置的升降组件（24）和升降框架（25），所述支撑平台（23）和超声波清洗箱（1）的外壁固定连接，所述两个支撑腿（22）和支撑平台（23）的下端面固定连接，并且两个支撑腿（22）分别位于超声波清洗箱（1）的两侧，所述升降驱动组件（21）设置在支撑平台（23）上，并且升降驱动组件（21）和两个对称设置的升降组件（24）连接，所述两个对称设置的升降组件（24）均设置在支撑平台（23）上，所述升降框架（25）和两个对称设置的升降组件（24）连接，并且升降框架（25）可置于超声波清洗箱（1）内，所述基片清洗夹具（3）设置在升降框架（25）上，所述两个对称设置的升降组件（24）分别位于超声波清洗箱（1）的两侧。

4.根据权利要求3所述的大批量的真空镀膜基片清洗装置，其特征在于：所述升降驱动组件（21）包括升降驱动电机（211）、减速机（212）、转轴一（213）、直齿伞齿轮一（214）和直齿伞齿轮二（215），所述升降驱动电机（211）和减速机（212）连接，所述减速机（212）和转轴一（213）连接，所述直齿伞齿轮一（214）和直齿伞齿轮二（215）分别设置在转轴一（213）的两端部，所述直齿伞齿轮一（214）和直齿伞齿轮二（215）分别和两个对称设置的升降组件（24）连接。

5.根据权利要求4所述的大批量的真空镀膜基片清洗装置，其特征在于：所述两个支撑腿（22）上均设有转轴一支撑座（216），所述转轴一（213）的两端分别通过轴承设置在转轴一支撑座（216）上。

6.根据权利要求4所述的大批量的真空镀膜基片清洗装置，其特征在于：所述升降组件（24）包括直齿伞齿轮三（241）、丝杆一（242）、滑块一（243）、两个对称设置的竖直支撑板（244）和竖直升降支撑板（245），所述直齿伞齿轮三（241）套设在丝杆一（242）的下端部上，所述滑块一（243）和丝杆一（242）连接，所述两个对称设置的竖直支撑板（244）均固定设置在支撑平台（23）的上端面上，所述竖直升降支撑板（245）和滑块一（243）固定连接，并且竖直升降支撑板（245）和两个对称设置的竖直支撑板（244）滑动连接，所述直齿伞齿轮一（214）和直齿伞齿轮二（215）分别与两个对称设置的升降组件（24）的直齿伞齿轮三（241）啮合。