[实用新型]磁控溅射旋转阴极

说明书

本实用新型公开了磁控溅射旋转阴极，包括安装座、外接管、内接管和固定座，所述外接管一端与安装座旋转连接，另一端经一靶管与固定座旋转连接，所述内接管一端固定在安装座上，另一端经一芯管与固定座连接，所述的固定座呈圆盖状，其盖口沿边上设置有一圈安装槽，所述靶管即插入安装槽，所述固定座的底部设置有一环形槽，所述靶管的内壁上设置有螺旋状的导水槽。本实用新型具有的优点是将冷却水流道转向处，即芯管、靶管和固定座三者连接处，设计成散射状的曲道，方便冷却水的流动，使得冷却水不易积压，该处不会有过大的水压，并且靶管上的螺旋槽，在旋转时，产生一定的负压，将连接结构处的冷却水吸走，进一步降低了连接处的水压。

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜领域，具体涉及磁控溅射旋转阴极。

背景技术

真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体（称基板、基片或基体）上凝固并沉积的方法，称为真空镀膜。

物理气相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法。制备硬质反应膜大多以物理气相沉积方法制得，它利用某种物理过程，如物质的热蒸发，或受到离子轰击时物质表面原子的溅射等现象，实现物质原子从源物质到薄膜的可控转移过程。物理气相沉积技术具有膜/基结合力好、薄膜均匀致密、薄膜厚度可控性好、应用的靶材广泛、溅射范围宽、可沉积厚膜、可制取成分稳定的合金膜和重复性好等优点。同时，物理气相沉积技术由于其工艺处理温度可控制在500℃以下，因此可作为最终的处理工艺用于高速钢和硬质合金类的薄膜刀具上。由于采用物理气相沉积工艺可大幅度提高刀具的切削性能，人们在竞相开发高性能、高可靠性设备的同时，也对其应用领域的扩展，尤其是在高速钢、硬质合金和陶瓷类刀具中的应用进行了更加深入的研究。

今年来，旋转阴极真空镀膜技术得到长足的发展，因为旋转阴极比起平面阴极，在靶材的使用率上得到非常大的提升，但旋转阴极中冷却水经芯管流入靶管，芯管与靶管是套接关系，所以水流的方向在一端形成反转，对该端的连接结构造成很大的压力，可能造成损伤、破裂等。

实用新型内容

本实用新型的一个目的是解决至少上述问题，并提供至少后面将说明的优点。

本实用新型的目的在于提供磁控溅射旋转阴极，为解决现有旋转阴极的冷却水流道，在方向转变处承受过大的压力，容易出现该处破损的问题。

为了实现根据本实用新型的这些目的和其它优点，提供了磁控溅射旋转阴极，包括安装座、外接管、内接管和固定座，所述外接管一端与安装座旋转连接，另一端经一靶管与固定座旋转连接，所述内接管一端固定在安装座上，另一端经一芯管与固定座连接，所述内接管位于外接管内，芯管位于靶管内，内接管和芯管导通，内接管和外接管之间留有缝隙，芯管和靶管之间留有缝隙，所述安装座上设置有进水管和出水管，所述进水管连通至内接管，所述出水管连通至外接管，芯管通过分水套安装固定座上，分水套上设置有若干通水孔，芯管的管口与固定座留有缝隙；

所述的固定座呈圆盖状，其盖口沿边上设置有一圈安装槽，所述靶管即插入安装槽，所述固定座的底部设置有一环形槽，所述环形槽的横截面为半圆形，环形槽的内环正对芯管的中心轴，所述靶管的内壁上设置有螺旋状的导水槽。

在一个可能的设计中，上述固定座上设置有泄水管，所述泄水管连通到靶管内的最低水平高度处。

在一个可能的设计中，上述分水套上若干通水孔形成环形，该环形的外环直径与环形槽的外环直径一致。

在一个可能的设计中，上述进水管的管路上设置一个侧气管，所述侧气管通过气泵连通外部空气。

在一个可能的设计中，上述侧气管上包覆有一个加热器，所述的加热器为电阻式加热器。