[实用新型]清洗离子源挡板

说明书

本实用新型公开了清洗离子源挡板，包括离子源、第一驱动气缸、第二驱动气缸、第一挡板和第二挡板，所述离子源的后侧面的两侧顶端分别固定安装有第一驱动气缸和第二驱动气缸，所述第一驱动气缸上转动安装有第一旋转轴，所述第二驱动气缸上转动安装有第二旋转轴。本实用新型通过加装第一挡板和第二挡板，在第一驱动气缸和第二驱动气缸的驱动下可发生偏转，将离子源完全遮蔽或者暴露，具有结构简单以及成本低廉的特点，能够有效保护离子源沟道免受污染，提高离子源的使用周期；通过设置第一锁块与第二锁块，在打开装置或闭合装置时，只需移动定位柱，就能使第一锁块与第二锁块分开或锁定，其结构巧妙，操作简单，能够防止挡板之间出现间隙。

技术领域

本实用新型涉及半导体器件及芯片等制造技术领域，具体为清洗离子源挡板。

背景技术

离子源在物理气象沉积真空镀膜中有很重要的作用，离子源的清洗作用可有效清除工件表面的杂质，使涂层与工件表面同时存在物理气相沉积，导致涂层结合力高，膜层致密、韧性好，适用于切削刀具、注塑模具和发动机耐磨零部件的硬质涂层，离子源是离子清洗的核心部件，但是在真空镀膜过程中，离子源容易受靶材影响，导致离子源被污染，从而影响镀膜质量，因此需要离子源挡板，但是现有的离子源挡板存在很多问题或缺陷：

一般的离子源挡板是固定安装在离子源附近的，不能进行开合，具有一定的局限性，且挡板之间容易存在间隙，容易松动。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供清洗离子源挡板，通过设置第一挡板、第二挡板、第一锁块和第二锁块，以解决上述背景技术中提出的不能开合和存在间隙的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：清洗离子源挡板，包括离子源、第一驱动气缸、第二驱动气缸、第一挡板和第二挡板，所述离子源的后侧面的两侧顶端分别固定安装有第一驱动气缸和第二驱动气缸，所述第一驱动气缸上转动安装有第一旋转轴，所述第二驱动气缸上转动安装有第二旋转轴，所述第一旋转轴的顶端固定连接有第一驱动连杆，所述第二旋转轴的顶端固定连接有第二驱动连杆，所述第一挡板和所述第二挡板在相互远离的一侧均固定连接有连接条，所述第一驱动连杆通过第一挡板上的连接条与第一挡板固定连接，所述第二驱动连杆通过第二挡板上的连接条与第二挡板固定连接，所述第一挡板和所述第二挡板在远离离子源的同侧面相互靠近的一端分别固定安装有第一锁块和第二锁块，所述第一锁块内滑动套接有定位柱，所述第二锁块上开有锁槽。

优选的，所述第一旋转轴与所述第一驱动气缸的输出轴固定连接，所述第二旋转轴与所述第二驱动气缸的输出轴固定连接。

优选的，所述第一驱动连杆以第一旋转轴为中心旋转，所述第二驱动连杆以第二旋转轴为中心旋转，所述第一驱动连杆和所述第二驱动连杆的旋转方向相反。

优选的，所述第一驱动连杆和所述第二驱动连杆均为L型连杆，且所述第一驱动连杆和所述第二驱动连杆的大小相同。

优选的，所述第一挡板和所述第二挡板均为陶瓷真空镀铜挡板，且所述第一挡板和所述第二挡板的大小相同。

优选的，所述第二锁块在远离第二挡板的一侧面上开有凸形孔，所述定位柱上固定安装有推柱，且推柱的顶端设有限位块。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

(1)本实用新型通过加装第一挡板和第二挡板，因为第一挡板和第二挡板均为陶瓷真空镀铜挡板，且在第一驱动气缸和第二驱动气缸的驱动下可发生偏转，将离子源完全遮蔽或者暴露，具有结构简单以及成本低廉的特点，能够有效保护离子源沟道免受污染，提高离子源的使用周期，以及在整个镀膜过程中能够起到蚀刻清洗，辅助膜层沉积，提高靶材离化率等辅助作用；

(2)本实用新型通过设置第一锁块与第二锁块，在打开装置或闭合装置时，只需移动定位柱，就能使第一锁块与第二锁块分开或锁定，其结构巧妙，操作简单，且锁定效果好，能够防止挡板之间出现间隙。

附图说明