[实用新型]密封型电容含浸机有效

专利信息
申请号: 202021914354.4 申请日: 2020-09-04
公开(公告)号: CN213124171U 公开(公告)日: 2021-05-04
发明(设计)人: 程加贤;吴陆军;王林 申请(专利权)人: 湖南盛通电子科技有限公司
主分类号: H01G13/04 分类号: H01G13/04
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 417500 湖南省娄底市冷水江市沙*** 国省代码: 湖南;43
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 密封 电容 含浸机
【说明书】:

实用新型提出一种密封型电容含浸机,包括机架、含浸装置、密封装置,其中,所述机架包括第一安装架和设置于所述第一安装架上方的第二安装架;所述含浸装置包括安装在所述第一安装架上的含浸池和设置于所述含浸池中的芯包夹具,所述含浸池为四边凸起、中心内凹的方形池状结构,所述含浸池的下表面抵接所述第一安装架,所述含浸池的四边上表面与所述第二安装架平齐,所述含浸池四边均形成有凹槽;所述密封装置包括盖设于所述含浸池上的含浸上盖、设置于所述凹槽内的环形密封圈以及对所述环形密封圈进行充气和排气的气压机构,所述含浸上盖尺寸与所述含浸池上表面尺寸相同。本实用新型密封型电容含浸机具有磨损小、寿命长的优点。

技术领域

本实用新型属于电容设备技术领域,具体是一种密封型电容含浸机。

背景技术

电容器是电子设备中大量使用的电子元件之一,广泛应用于电路中的隔直通交,耦合,旁路,滤波,调谐回路、能量转换、控制等方面,而由于液态电解电容的诸多问题以及电容器行业发展对产品质量要求越来越高,采用导电性高分子材料作为介电材料的固态电容得到更为广泛的应用。而固态电容的生产包括裁切、钉卷、胶盖组立、熔接、化成、含浸、聚合、封口组立、浸泡、捺印、老化、外观检验、切脚和包装等步骤,现有含浸机普遍采取加压平面密封,这种密封方式需要经常更换密封装置,对含浸机磨损较大,含浸机使用寿命较短。

为解决现有电容含浸机密封磨损较大、寿命较短的问题,有必要提出一种密封型电容含浸机。

实用新型内容

鉴于背景技术提出的问题,本实用新型的目的是提出一种密封型电容含浸机,旨在解决现有电容含浸机密封磨损较大、寿命较短的问题。

为实现上述目的,本实用新型采用如下技术方案:

一种密封型电容含浸机,包括:

机架,所述机架包括第一安装架和设置于所述第一安装架上方的第二安装架;

含浸装置,所述含浸装置包括安装在所述第一安装架上的含浸池和设置于所述含浸池中的芯包夹具,所述含浸池为四边凸起、中心内凹的方形池状结构,所述含浸池的下表面抵接所述第一安装架,所述含浸池的四边上表面与所述第二安装架平齐,所述含浸池四边均形成有凹槽;

密封装置,所述密封装置包括盖设于所述含浸池上的含浸上盖、设置于所述凹槽内的环形密封圈以及对所述环形密封圈进行充气和排气的气压机构,所述含浸上盖尺寸与所述含浸池上表面尺寸相同。

优选地,所述第二安装架上安装有移行导轨,所述移行导轨的一端与所述含浸池边缘平齐,所述含浸上盖侧边安装有移行滑块,所述移行滑块在所述移行导轨上滑动。

优选地,所述移行导轨长度为所述含浸池宽度两倍,所述移行滑块移行至所述移行导轨远离所述含浸池的端头时,所述含浸上盖完全脱离所述含浸池。

优选地,所述密封型电容含浸机还包括上盖位移气缸和上盖位移伸缩杆,所述上盖位移气缸安装在所述第二安装架上,所述上盖位移伸缩杆两端分别连接所述上盖位移气缸和所述含浸上盖。

优选地,所述凹槽为15mm*15mm的方形凹槽。

优选地,所述含浸装置数量为两个,两个所述含浸装置间隔设置于所述机架上。

本实用新型的有益效果主要包括:含浸池中盛放有含浸液,含浸工序未开始时,含浸上盖敞开,芯包夹具放置于含浸池没入含浸液中,随后闭合含浸上盖,并对设置于凹槽内的环形密封圈进行充气,含浸上盖与含浸池之间的缝隙被充气后的环形密封圈填满并形成一个密闭空间,芯包夹具在其中进行含浸工序。根据各电容含浸工艺要求的时间不同,在含浸工序完成后,对环形密封圈进行排气,并将含浸上盖打开,取出含浸完成的芯包夹具,完成一个完整含浸工序循环。利用含浸上盖的闭合和打开,以及环形密封圈的充排气,按时对含浸池实现密封以便完成芯包夹具在含浸池中的含浸,密封可靠,含浸机的磨损较小、寿命较长。

附图说明

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于湖南盛通电子科技有限公司,未经湖南盛通电子科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202021914354.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top