[实用新型]高分辨率距离传感器像素结构及距离传感器有效

专利信息
申请号: 202021920586.0 申请日: 2020-09-04
公开(公告)号: CN212783453U 公开(公告)日: 2021-03-23
发明(设计)人: 东尚清 申请(专利权)人: 上海大芯半导体有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146;G01S17/894;G01S17/10;G01S7/4863;G01S7/481
代理公司: 上海启核知识产权代理有限公司 31339 代理人: 赵祖祥
地址: 200131 上海市浦东新区中国*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 高分辨率 距离 传感器 像素 结构
【权利要求书】:

1.一种高分辨率距离传感器像素结构,其特征在于,所述像素结构为前照式结构,其包括:

多个像素组;

单个所述像素组内包括多个单光子雪崩电路结构、处理电路及浅隔离层;其中,所述处理电路围绕在多个单光子雪崩电路结构外围,相邻的单光子雪崩电路结构之间由所述浅隔离层隔离,所述浅隔离层隔离所述处理电路与单光子雪崩电路结构;

同一像素组内单光子雪崩电路结构共用一DNW或DPW。

2.如权利要求1所述的高分辨率距离传感器像素结构,其特征在于,还包括滤波层,所述滤波层设置在所述像素结构表面。

3.如权利要求1所述的高分辨率距离传感器像素结构,其特征在于,还包括微聚镜,所述微聚镜设置在所述像素结构表面。

4.如权利要求3所述的高分辨率距离传感器像素结构,其特征在于,所述微聚镜设置在一个或者多个像素结构表面。

5.如权利要求1所述的高分辨率距离传感器像素结构,其特征在于,在所述像素结构底部设置一底层反射层。

6.如权利要求5所述的高分辨率距离传感器像素结构,其特征在于,所述底层反射层表面为平面、锯齿状或凹凸不平结构。

7.如权利要求1所述的高分辨率距离传感器像素结构,其特征在于,单个所述像素组内包括直线排列的单光子雪崩电路结构。

8.如权利要求1所述的高分辨率距离传感器像素结构,其特征在于,单个所述像素组内包括矩阵排列的单光子雪崩电路结构。

9.一种距离传感器,其特征在于,采用如权利要求1-8中任一项所述的高分辨率距离传感器像素结构。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海大芯半导体有限公司,未经上海大芯半导体有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202021920586.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top