[实用新型]一种钕铁硼永磁体陶瓷镀层的制备装置

权利要求书

1.一种钕铁硼永磁体陶瓷镀层的制备装置，其特征在于，

包括容纳桶（1）、泵体（2）、喷涂系统、夹具机构，泵体（2）一端通过管路与容纳桶（1）相通，另一端通过管路与喷涂系统相通，喷涂系统位于夹具机构的上方，喷涂系统与夹具机构之间存在距离，夹具机构通过管路与回收桶（7）相通，回收桶（7）与容纳桶（1）通过管路相通；

喷涂系统包括喷头（5），其中喷头（5）的进口与连接泵体（2）的管路相通；

夹具机构包括支撑板（11）、上回收槽板（9）和下回收槽板（10），其中下回收槽板（10）位于支撑板（11）的上方，下回收槽板（10）两端对称设置有上回收槽板（9），两侧的上回收槽板（9）与下回收槽板（10）之间形成用于放置钕铁硼永磁体（8）的容纳空间；

喷头（5）的出口位于喷涂系统的容纳空间上方。

2.据权利要求1所述一种钕铁硼永磁体陶瓷镀层的制备装置，其特征在于，喷头（5）的出口为多个喷出点，多个喷出点设置成点阵型。

3.据权利要求1所述一种钕铁硼永磁体陶瓷镀层的制备装置，其特征在于，喷涂系统还包括倒漏斗形的回收槽（4），回收槽（4）的顶端固定在管路上并被管路贯穿，或固定在喷头（5）的顶端，回收槽（4）的底端两侧分别扣接在喷头（5）的底端两侧。