[实用新型]一种结构光调制的暗场显微缺陷三维测量系统

权利要求书

1.一种结构光调制的暗场显微缺陷三维测量系统，其特征在于，包括光源(1)、空间光调制器(2)、第一透镜(3)、分光镜(4)、显微物镜(5)、第二透镜(9)、第三透镜(10)、滤波器(11)、第四透镜(12)和CCD(13)；

所述空间光调制器(2)用于接收光源(1)发出的光并调制成结构光；

所述空间光调制器(2)调制的结构光依次经过第一透镜(3)、分光镜(4)和显微物镜(5)微缩投影至样品(6)上并在样品(6)上反射形成零级光(14)和一级光(15)；

所述零级光(14)依次经过显微物镜(5)、第二透镜(9)和第三透镜(10)达到滤波器(11)；

所述一级光(15)依次经过显微物镜(5)、第二透镜(9)、第三透镜(10)和第四透镜(12)到达CCD(13)成像。

2.根据权利要求1所述的一种结构光调制的暗场显微缺陷三维测量系统，其特征在于，所述滤波器(11)置于第三透镜(10)和第四透镜(12)之间。

3.根据权利要求2所述的一种结构光调制的暗场显微缺陷三维测量系统，其特征在于，所述第三透镜(10)的后焦面和第四透镜(12)的前焦面重合形成频谱面，所述滤波器(11)位于频谱面上。

4.根据权利要求1所述的一种结构光调制的暗场显微缺陷三维测量系统，其特征在于，所述滤波器(11)的尺寸小于CCD(13)的孔径尺寸。

5.根据权利要求1所述的一种结构光调制的暗场显微缺陷三维测量系统，其特征在于，还包括用于安装样品(6)的位移机构(8)，所述位移机构(8)用于样品(6)在光轴方向移动。

6.根据权利要求1所述的一种结构光调制的暗场显微缺陷三维测量系统，其特征在于，所述样品(6)安装在显微物镜(5)的焦面附近。

7.根据权利要求1-6任一项所述的一种结构光调制的暗场显微缺陷三维测量系统，其特征在于，所述样品(6)为透明材料。

8.根据权利要求1-6任一项所述的一种结构光调制的暗场显微缺陷三维测量系统，其特征在于，所述光源(1)为LED光源。