[实用新型]多腔体超低温磁控溅射镀膜机有效

专利信息
申请号: 202021935421.0 申请日: 2020-09-04
公开(公告)号: CN212357374U 公开(公告)日: 2021-01-15
发明(设计)人: 王荣福 申请(专利权)人: 深圳市汉嵙新材料技术有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/56
代理公司: 深圳市博锐专利事务所 44275 代理人: 王芳
地址: 518000 广东省深圳市光明*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 多腔体 超低温 磁控溅射 镀膜
【权利要求书】:

1.多腔体超低温磁控溅射镀膜机,包括至少一个工艺室,所述工艺室内设有冷却辊和溅射腔室,溅射腔室内设有阴极靶材,其特征在于:所述溅射腔室的数量为四个,所述冷却辊的直径大于或等于65cm,所述冷却辊的温度低于或等于-15℃。

2.根据权利要求1所述的多腔体超低温磁控溅射镀膜机,其特征在于:所述冷却辊内设有第一冷却道,所述第一冷却道内设有氟利昂。

3.根据权利要求2所述的多腔体超低温磁控溅射镀膜机,其特征在于:所述冷却辊的材质为不锈钢。

4.根据权利要求1所述的多腔体超低温磁控溅射镀膜机,其特征在于:所述工艺室的数量为两个。

5.根据权利要求4所述的多腔体超低温磁控溅射镀膜机,其特征在于:还包括缓存室,所述缓存室位于两个所述工艺室之间且分别与两个所述工艺室连通。

6.根据权利要求1所述的多腔体超低温磁控溅射镀膜机,其特征在于:相邻的两个所述溅射腔室之间通过挡板隔离,所述挡板内设有第二冷却道,所述第二冷却道内设有冷却介质。

7.根据权利要求1所述的多腔体超低温磁控溅射镀膜机,其特征在于:所述工艺室内还设有换靶机构,所述换靶机构包括导向组件、支撑组件和驱动组件,导向组件包括固定座,所述固定座上设有四组导向槽,四组所述导向槽分别对应于四个所述溅射腔室设置,每组所述导向槽的长轴的延长线均与所述冷却辊的中心轴相交;所述支撑组件包括固定体、两个第一伸缩杆和两个第二伸缩杆,所述第一伸缩杆的一端可伸缩设于所述固定体内,所述第二伸缩杆的一端可伸缩设于所述第一伸缩杆内,所述第一伸缩杆和第二伸缩杆上分别设有与所述导向槽相配合的导向块,所述第一伸缩杆和第二伸缩杆上分别连接有安装座,所述阴极靶材安装在所述安装座上;所述驱动组件包括直线驱动件,所述直线驱动件设于所述固定座上并连接所述固定体。

8.根据权利要求7所述的多腔体超低温磁控溅射镀膜机,其特征在于:所述溅射腔室内设有一组两面开口的阴极小室,所述阴极靶材伸入所述阴极小室内。

9.根据权利要求8所述的多腔体超低温磁控溅射镀膜机,其特征在于:所述阴极小室内还设有抽真空机构,所述抽真空机构与外部的抽真空机相连。

10.根据权利要求7所述的多腔体超低温磁控溅射镀膜机,其特征在于:所述导向块上设有与所述导向槽的一侧壁抵触的滚动轴承。

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