[实用新型]熏蒸式足浴盆

权利要求书

1.一种熏蒸式足浴盆，该足浴盆的上壳体（1）与内底板（4）的顶部扣合固定构成上水腔，下壳体（11）与内底板的底部扣合构成下腔室，下腔室内设有风机（17）、电源盒（14）、电磁阀组件（9）和加热水箱（6），下壳体的底部设有支撑脚，上壳体内的内底板前后两侧分别设有翘起的水箱腔和电路腔，内底板的水箱腔与电路腔之间中间凸台两侧分别设有出风口，内底板的中间凸台下方设有密封固定安装的加热水箱，安装处设有第一密封圈（5），上壳体的水箱腔一侧壳壁大于电路腔一侧壳壁呈偏心设置，水箱腔和电路腔处的上壳体分别设有箱盖孔和电路板座，电路板座设置于上壳体的壳口内径，控制面板组件（2）设置于电路板座内；其特征在于所述加热水箱（6）一端的风道（18）伸入内底板（4）底部的中间凸台内，风道呈L字形，风道一侧的下壳体（11）内加热水箱设有风机（17），风道通过加热水箱内壁的L型管与风机的出风口连接，风机呈竖直放置，风道的吹风口位于加热水箱的箱口上方，加热水箱位于内底板的中间凸台内下方，加热水箱的底部通孔分别设有PTC加热片（8）和水分子雾化器（15），水分子雾化器与加热水箱连接处设有第二密封圈（16），PTC加热片呈方形，水分子雾化器呈圆形，加热水箱通过底部边沿的缘边安装固定于内底板的中间凸台下方；上壳体（1）的水箱腔内设有水箱组件，水箱组件底部的出水孔设有电磁阀组件（9），电磁阀组件通过管路与加热水箱连通，风机、电磁阀组件、PTC加热片、水分子雾化器和控制面板组件通过线路与电源盒（14）连接，电源盒通过线扣件（13）固定于上壳体的内径；所述水箱组件为第一流道，电磁阀组件至加水水箱为第二流道，加热水箱内为第三流道，所述第一流道、第二流道、第三流道的高度依次下降；所述第二密封圈替换为对称设置的密封条（22），加热水箱的箱口处密封条设有向加热水箱内导流的内斜边。

2.根据权利要求1所述的熏蒸式足浴盆，其特征在于所述电磁阀组件（9）设置于内支架（10）的电磁阀槽，内支架的下方设有集水盒（12），内支架通过螺丝固定于下壳体（11）内底部，电磁阀组件的两侧对称设有水滴管，所述电磁阀组件的滴水管通过内支架的电磁阀槽伸入集水盒的盒口上方。

3.根据权利要求2所述的熏蒸式足浴盆，其特征在于所述集水盒（12）的下壳体（11）内一侧凹槽边呈T字形，下壳体的底部一侧设有T字形的电线槽，下壳体的电线槽向下壳体内凸起，对称的另一侧下壳体底部设有散热孔，集水盒的T字形凹槽边与T字形的电线槽对应，电源盒（14）设置于集水盒对称另一侧的上壳体（1）内，内支架（10）的电磁阀槽两侧边槽相通呈T字形。

4.根据权利要求3所述的熏蒸式足浴盆，其特征在于所述下壳体（11）的电线槽设有加热水箱（6）中伸出的排水孔（601），排水孔设置于加热箱的底部，并伸出下壳体的电线槽处管孔。

5.根据权利要求2所述的熏蒸式足浴盆，其特征在于所述内支架（10）的两侧边槽位于加热水箱（6）的一端下方。

6.根据权利要求1所述的熏蒸式足浴盆，其特征在于所述水箱组件包括水箱座（7）和水箱盖（3），水箱座通过超声波熔接固定于内底板（4）的水箱腔内，水箱盖通过上壳体（1）的水箱腔处孔口与内底板中水箱腔内水箱座扣合为一体。

7.根据权利要求1所述的熏蒸式足浴盆，其特征在于所述内底板（4）的中间凸台两侧对称设有按摩板（20），按摩板的中间凸台一侧分别设有翘起的侧边板，按摩板的板面分别设有按摩轮（21）和按摩件（19），及均匀分布的按摩柱和气孔，出风口设置于按摩板的两侧板。

8.根据权利要求1所述的熏蒸式足浴盆，其特征在于所述内底板（4）的中间凸台内设有蒸汽温度感温头，蒸汽温度感温头通过线路与电源盒（14）连接。

9.根据权利要求1所述的熏蒸式足浴盆，其特征在于所述下壳体（11）内的内底板（4）底部设有水槽底壳，加热水箱（6）和水箱组件的外径密封安装于水槽底壳的槽孔内。

10.根据权利要求1所述的熏蒸式足浴盆，其特征在于所述上壳体（1）的脚部伸入口设有伸缩脚套盖，伸缩脚套盖设有两个脚伸入孔，伸缩脚套盖与上壳体扣合。