[实用新型]一种BTA的纯化装置有效
申请号: | 202021944613.8 | 申请日: | 2020-09-08 |
公开(公告)号: | CN213221036U | 公开(公告)日: | 2021-05-18 |
发明(设计)人: | 张雷;陈志清;徐鹏飞 | 申请(专利权)人: | 势润化学科技(上海)有限公司 |
主分类号: | B01D9/02 | 分类号: | B01D9/02;B01F7/18;B01F15/06;C07D249/18 |
代理公司: | 广东有知猫知识产权代理有限公司 44681 | 代理人: | 李志海 |
地址: | 201500 上海市金山区阳镇*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 bta 纯化 装置 | ||
本实用新型公开了一种BTA的纯化装置,包括提取罐、内加热器、导热结构以及结晶析出结构,所述提取罐为立式罐体,所述提取罐顶端铰接有密封盖,所述密封盖上设有气体导出结构,所述提取罐底端设有内加热器,所述提取罐内设有结晶析出结构,本实用新型涉及精密半导体制备辅料加工设备技术领域,该BTA的纯化装置,以立式罐式的容器作为加热重结晶析出提纯的主体设备,其具有操作方便,结构简单,提取纯度高的特点,同时辅以密封混合结构,将一次结晶析出的结晶与溶剂快速搅拌混合均匀,而后进行重结晶析出操作,不仅混合彻底,避免一次结晶体混合不充分的问题,同时无需准备两套设备分别进行混合和重结晶节省设备成本。
技术领域
本实用新型涉及精密半导体制备辅料加工设备技术领域,具体为一种BTA的纯化装置。
背景技术
随着半导体行业的发展,对光刻胶剥离液提出了更高的的要求,本专利涉及的产品BTA,是第四代水性光刻胶中的核心辅料,第四代水性光刻胶能更好的去除氮化钛掩模,更对铜、钴、钽、氮化钽等金属;氧化硅、BDII低介电材料等具有良好的基材兼容性,第四代水性光刻胶去除液成品对金属离子的要求较高,成品metal<20ppb,作为该配方中起到缓蚀剂作用的BTA也提出了更高的要求,对其metal要求小于20ppb,国内吡唑的生产厂家生产的该产品主要应用在金属加工等行业,产品的金属离子含量一般在4000ppb,如果应用在第四代水性光刻胶的配方中,会严重影响成品的金属离子含量,本发明有效的将BTA的金属离子控制在20ppb以下,并减少了其它杂质的含量,使其能完全满足第四代水性光刻胶的要求。
实用新型内容
针对现有技术的不足,本实用新型提供了一种BTA的纯化装置,解决了现有的重结晶蒸馏法,加入结晶剂后在结晶析出后进行过滤分离,但是这种方式产生的结晶物,其由于析出过程中分离不彻底,得到的纯化物纯度不是很高的问题。
为实现以上目的,本实用新型通过以下技术方案予以实现:一种BTA的纯化装置,包括提取罐、内加热器、导热结构以及结晶析出结构,所述提取罐为立式罐体,所述提取罐顶端铰接有密封盖,所述密封盖上设有气体导出结构,所述提取罐底端设有内加热器,所述提取罐内设有结晶析出结构,所述内加热器与结晶析出结构之间设有导热结构,所述提取罐一侧设有密封混合结构;
所述密封混合结构包括:插套、安装架、安装板、驱动电机、搅拌轴、若干搅拌桨、旋转杆以及若干连杆;
所述密封盖中心开设有插装孔,所述插装孔内设有插套,所述安装架安装于提取罐一侧,所述安装架顶端向密封盖中心一侧延伸出安装板,所述驱动电机安装于板上,所述搅拌轴插装于插套内,所述搅拌轴上环设有若干安装槽,若干所述搅拌桨活动嵌装于若干所述安装槽内,所述搅拌轴轴心插装有旋转杆,所述旋转杆与驱动电机驱动端连接,所述旋转杆底端与若干搅拌桨端部连接,若干所述连杆连接于若干所述搅拌桨与安装槽内侧之间。
优选的,所述气体导出结构包括:若干导气孔以及若干隔尘网;
所述密封盖顶端且位于插装孔外侧换设有若干导气孔,若干所述导气孔上嵌装有若干隔尘网。
优选的,所述结晶析出结构包括:放置环、提取内胆以及外承口;
所述提取罐为圆柱形空腔结构,所述提取罐顶端设有放置环,所述提取内胆插装于放置环内,所述提取内胆顶端设有外承口与放置环匹配。
优选的,所述导热结构包括:主导热底垫、若干副导热柱以及若干副导热板;
所述主导热底垫套设于内加热器的热端上,所述主导热底垫外侧延伸出若干副导热柱,若干副导热柱上设有若干副导热板,若干所述副导热板环设于提取内胆外壁。
优选的,所述提取罐与密封盖之间设有固定锁。
有益效果
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