[实用新型]一种匀胶铬版检查装置有效
申请号: | 202021950462.7 | 申请日: | 2020-09-09 |
公开(公告)号: | CN212411011U | 公开(公告)日: | 2021-01-26 |
发明(设计)人: | 李由根;李娜 | 申请(专利权)人: | 东莞市宏诚光学制品有限公司 |
主分类号: | G03F1/84 | 分类号: | G03F1/84 |
代理公司: | 东莞卓为知识产权代理事务所(普通合伙) 44429 | 代理人: | 齐海迪 |
地址: | 523383 广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 匀胶铬版 检查 装置 | ||
本实用新型公开了一种匀胶铬版检查装置,包括固定板、两个支撑板以及与支撑板呈可转动地连接的转动轮,两个支撑板的底部均固定于固定板上,支撑板的顶部包括互成直角的第一放置边和第二放置边,两个支撑板相互平行且呈间隔地布置以形成有供转动轮安装用的安装空间,两个支撑板的第一放置边相对齐,两个支撑板的第二放置边相对齐,转动轮至少有两个,转动轮位于安装空间内,两个转动轮之一者呈可转动地安装于第一放置边并凸出于第一放置边的顶面,两个转动轮之另一者安装于第二放置边并凸出于第二放置边的顶面。本实用新型通过以上结构实现了匀胶铬版的稳固放置,同时还可以保持匀胶铬版保持洁净且避免了匀胶铬版在放置过程中发生碰撞而受损。
技术领域
本实用新型涉及半导体制造的技术领域,具体涉及一种匀胶铬版检查装置。
背景技术
随着我国科技不断进步,半导体集成电路在液晶显示行业或者触控屏行业的应用越来越多,而在半导体集成电路的生产制造过程中均需用到掩膜版,而匀胶铬版作为掩膜版的基版,其在半导体集成电路的生产中具有十分重要的地位。
众所周知,匀胶铬版作为掩膜版的基础材料。其清洁程度会直接影响到最后所制作出的产品的质量。在实际的生产过程中,玻璃基版作为匀胶铬版的基底,其需要依次经过镀膜、匀胶等工序后才能被制成为匀胶铬版,然后再在匀胶铬版上通过光刻工艺制成掩膜版。为了使所生产出的掩模版的质量达到预设要求,在实际的生产过程中包括将匀胶铬版或者玻璃基版放置在检查座上并对其进行暂存、冷却以及检查的步骤,在以上的几个过程中均需要使得匀胶铬版或者玻璃基版保持干净以及无尘的状态。现有的匀胶铬版检查装置主要是通过一个夹持装置将匀胶铬版或者玻璃基版夹持于空中,这样子会带来以下问题:容易对夹持的匀胶铬版或者玻璃基版造成损伤,且夹持位置处容易沾染有细小颗粒物。
因此,亟需一种匀胶铬版检查装置来解决上述问题。
发明内容
本项实用新型是针对现在的技术不足,提供一种匀胶铬版检查装置。
本实用新型为实现上述目的所采用的技术方案是:
一种匀胶铬版检查装置,包括固定板、两个支撑板以及与所述支撑板呈可转动地连接的转动轮,两个所述支撑板的底部均固定于所述固定板上,所述支撑板的顶部包括互成直角的第一放置边和第二放置边,两个所述支撑板相互平行且呈间隔地布置以形成有供所述转动轮安装用的安装空间,两个所述支撑板的第一放置边相对齐,两个所述支撑板的第二放置边相对齐,所述转动轮至少有两个,所述转动轮位于所述安装空间内,两个所述转动轮之一者呈可转动地安装于所述第一放置边并凸出于所述第一放置边的顶面,两个所述转动轮之另一者安装于所述第二放置边并凸出于所述第二放置边的顶面。
作进一步改进,所述第一放置边上安装有两个所述转动轮,所述第一放置边向上凸设有用于安装所述转动轮的第一凸起部和第二凸起部,所述第一凸起部和所述第二凸起部沿所述第一放置边的长度方向布置,且所述第一凸起部的顶面和所述第二凸起部的顶面位于同一直线上。
作进一步改进,所述第二放置边上安装有两个所述转动轮,所述第二放置边向上凸设有用于安装所述转动轮的第三凸起部和第四凸起部,所述第三凸起部和所述第四凸起部沿所述第二放置边的长度方向布置,且所述第三凸起部的顶面和所述第四凸起部的顶面位于同一直线上。
作进一步改进,所述转动轮的外侧壁向内凹陷形成有用于放置匀胶铬版的环状的放置部,且所述放置部的左右两侧壁相互垂直。
作进一步改进,所述匀胶铬版检查装置还包括用于将所述支撑板稳固地支撑于所述固定板上的加固板,所述加固板呈倾斜地固定于所述支撑板和所述固定板之间,所述加固板至少有两个,且两个所述加固板分别位于所述安装空间的两侧。
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G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备