[实用新型]用于石材雕刻机的下沉式排水装置有效

专利信息
申请号: 202021956702.4 申请日: 2020-09-09
公开(公告)号: CN213593288U 公开(公告)日: 2021-07-02
发明(设计)人: 徐国孚 申请(专利权)人: 斯度玛信(北京)科技有限公司
主分类号: B28D1/00 分类号: B28D1/00;B28D7/00;B28D7/02
代理公司: 北京万思博知识产权代理有限公司 11694 代理人: 孙黎生
地址: 102200 北京市昌平区中关*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 用于 石材 雕刻 下沉 排水 装置
【权利要求书】:

1.一种用于石材雕刻机的下沉式排水装置,石材雕刻机包括机床台面和机床轨道,其特征在于,所述下沉式排水装置包括:

若干第一水槽,位于所述机床台面的下方,并沿所述机床轨道方向水平叠加布置,每一第一水槽配置成由两侧的机床轨道向中心汇水并流入第二水槽,每一第一水槽用于接收机床加工的冷却水和切屑;

第二水槽,位于所述若干第一水槽的下方,用于接收由所述若干第一水槽流出的水及切屑;

排水管,设置在所述第二水槽处,用于将水及切屑排出。

2.根据权利要求1所述的下沉式排水装置,其特征在于,所述每一第一水槽均为对称结构,包括:

两个侧板,对应搭接在两侧的机床轨道处,呈间隔布置以形成第一水槽的槽壁,且每一侧板为倒梯形结构;

两个底板,对应连接在所述两个侧板的底缘处,以形成第一水槽的槽底,每一底板具有坡度,以便于汇水;和

槽口,形成在第一水槽的中心位置处,以通过冷却水和切屑。

3.根据权利要求1所述的下沉式排水装置,其特征在于,所述第二水槽为导槽,且为前高后低的结构。

4.根据权利要求2所述的下沉式排水装置,其特征在于,所述排水管布置在所述第二水槽的后端处。

5.根据权利要求1-4中任一项所述的下沉式排水装置,其特征在于,还包括沉淀池,设置在所述第二水槽的下方。

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