[实用新型]一种离子膜烧碱装置中氯酸盐分解槽的后续处理结构有效
| 申请号： | 202021959514.7 | 申请日： | 2020-09-09 |
| 公开（公告）号： | CN213113537U | 公开（公告）日： | 2021-05-04 |
| 发明（设计）人： | 常艳琴;王金峰;沙剑;王鑫;常培珑;刘成军;潘存鹏;田红军;王妍;李作龙 | 申请（专利权）人： | 金川集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C25B1/46 | 分类号： | C25B1/46;C25B9/00 |
| 代理公司： | 兰州中科华西专利代理有限公司 62002 | 代理人： | 贺云美 |
| 地址： | 73710*** | 国省代码： | 甘肃;62 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 离子 烧碱 装置 氯酸盐 分解 后续 处理 结构 | ||
【权利要求书】：
1.一种离子膜烧碱装置中氯酸盐分解槽的后续处理结构，其特征在于，该后续处理结构包括氯酸盐分解槽（1），通过带有阀门的三通并联设在所述氯酸盐分解槽（1）氯气管道末端的废气处理（4）和氯气总管（5）以及设在所述氯酸盐分解槽（1）氯水管道末端的氯水槽（3），所述氯水管道上设有几字型高封管（2）。
2.如权利要求1所述的后续处理结构，其特征在于，所述氯气管道和所述氯水管道上均设有开关阀门。
3.如权利要求1所述的后续处理结构，其特征在于，所述几字型高封管（2）向上延伸的高度为4.5米。
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