[实用新型]一种晶圆清洗设备

说明书

本实用新型公开了一种晶圆清洗设备，包括箱体，所述箱体的正面固定连接有缓冲箱，所述箱体的背面固定连接有操作箱。本实用新型通过箱体、缓冲箱、操作箱、电机、U型轴、传动杆、活动座、第一移动杆、第一挡板、筛框、第二挡板、第二移动杆、移动板、滑轮、支撑板、水箱、抽水管、水泵、出水管、喷水管、进水管、排水管、凹槽、过滤板、通孔、滑槽、滑块、弹簧和喷头的设置，达到了清洗效果好且具备水循环功能的优点，解决了现有的清洗设备清洗效果差且不具备水循环功能的问题，当人们使用清洗设备时，可以有效的对晶圆原料进行清洗，不会导致晶圆原料清洗不彻底，不影响晶圆生产的质量，且清洗后的水能重复利用。

技术领域

本实用新型涉及晶圆生产加工技术领域，具体为一种晶圆清洗设备。

背景技术

晶圆是指制作硅半导体积体电路所用的硅晶片，其原始材料是硅，高纯度的多晶硅溶解后掺入硅晶体晶种，然后慢慢拉出，形成圆柱形的单晶硅，硅晶棒在经过研磨，抛光，切片后，形成硅晶圆片，也就是晶圆，晶圆在生产加工过程中会用到清洗设备。

目前现有的清洗设备，清洗效果差且不具备水循环功能，当人们使用清洗设备时，无法有效的对晶圆原料进行清洗，导致晶圆原料清洗不彻底，影响晶圆生产的质量，且清洗后的水不能重复利用，浪费水资源，不方便人们使用。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种晶圆清洗设备，具备清洗效果好且具备水循环功能的优点，解决了现有的清洗设备清洗效果差且不具备水循环功能的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种晶圆清洗设备，包括箱体，所述箱体的正面固定连接有缓冲箱，所述箱体的背面固定连接有操作箱，所述操作箱内腔底部的后侧固定连接有电机，所述电机的输出端固定连接有U型轴，所述U型轴的表面通过活动轴活动连接有传动杆，所述传动杆的正面通过活动轴活动连接有活动座，所述活动座的正面固定连接有第一移动杆，所述第一移动杆的正面贯穿至箱体的内腔并固定连接有第一挡板，所述第一挡板的正面固定连接有筛框，所述筛框的正面固定连接有第二挡板，所述第二挡板的正面固定连接有第二移动杆，所述第二移动杆的正面贯穿至缓冲箱的内腔并固定连接有移动板，所述筛框底部的四周固定连接有滑轮，所述滑轮的底部设置有支撑板，所述支撑板的两侧与箱体内腔的两侧固定连接，所述支撑板的顶部与滑轮的底部接触，所述支撑板的底部固定连接有水箱，所述水箱的底部与箱体内腔的底部固定连接，所述水箱的两侧均连通有抽水管，所述抽水管远离水箱的一端连通有水泵，所述水泵的内侧通过支撑座与箱体的两侧固定连接，所述水泵的顶部连通有出水管，所述出水管远离水泵的一端贯穿至箱体的内腔并连通有喷水管，所述喷水管的内侧连通有喷头。

优选的，所述箱体左侧的顶部连通有进水管，所述进水管的表面设置有第一阀门，所述水箱内腔的底部连通有排水管，所述排水管的底部贯穿至箱体的底部并设置有第二阀门。

优选的，所述喷水管外侧的顶部和底部均固定连接有固定块，且固定块的外侧与箱体内腔的两侧固定连接。

优选的，所述支撑板顶部的两侧均开设有凹槽，所述凹槽的内腔固定连接有过滤板，所过凹槽的底部开设有通孔，所述通孔的底部与水箱的顶部连通。

优选的，所述缓冲箱内腔的顶部和底部均开设有滑槽，所述滑槽的内腔滑动连接有滑块，所述滑块的内侧与移动板的顶部和底部固定连接。

优选的，所述缓冲箱的内腔设置有弹簧，所述弹簧的正面与缓冲箱内腔的正面固定连接，所述弹簧的背面与移动板的正面固定连接。

优选的，所述U型轴的顶部套接有轴承座，且轴承座的顶部与操作箱内腔的顶部固定连接。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果如下：