[实用新型]一种晶圆低温键合系统有效

专利信息
申请号: 202021984729.4 申请日: 2020-09-11
公开(公告)号: CN212907664U 公开(公告)日: 2021-04-06
发明(设计)人: 司伟;刘效岩 申请(专利权)人: 北京华卓精科科技股份有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67
代理公司: 北京荟英捷创知识产权代理事务所(普通合伙) 11726 代理人: 段志慧
地址: 100176 北京市大兴区经*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 低温 系统
【权利要求书】:

1.一种晶圆低温键合系统,其特征在于,包括:传输模块、等离子活化模块,清洗亲水模块,对准键合模块;

所述传输模块,用于存放及传输晶圆,并与控制系统相连,实现自动化生产;

所述等离子活化模块,用于采用等离子体对晶圆表面进行活化处理,增加晶圆表面的悬挂键;

所述清洗亲水模块,用于对经过等离子活化处理后的晶圆表面进行亲水处理,使悬挂键转化为羟基,同时对晶圆表面进行清洗防止大颗粒污染;

所述对准键合模块,用于对经过等离子活化和亲水处理的两张晶圆进行对准,完成对准之后进行晶圆键合,经过键合后的两张晶圆形成晶圆对。

2.根据权利要求1所述的一种晶圆低温键合系统,其特征在于,所述传输模块包括晶圆盒载台,前端传输机械手,晶圆暂存装置,预对准装置和后端转运机械手。

3.根据权利要求1所述的一种晶圆低温键合系统,其特征在于,还包括对准校验模块,所述对准校验模块,用于对所述晶圆对的对准精度进行检测,用以判定晶圆对的对准精度是否满足工艺要求。

4.根据权利要求1或3所述的一种晶圆低温键合系统,其特征在于,还包括解键合模块,所述解键合模块,用于将对准精度不满足工艺要求的晶圆对进行解键合处理。

5.根据权利要求1所述的一种晶圆低温键合系统,其特征在于,所述等离子活化模块和所述清洗亲水模块可为一个或多个。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京华卓精科科技股份有限公司,未经北京华卓精科科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202021984729.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top