[实用新型]多加工台往复式磁控溅射真空镀膜机

说明书

本实用新型提供了一种多加工台往复式磁控溅射真空镀膜机，属于镀膜设备技术领域。它解决了现有真空镀膜机加工效率低的问题。本多加工台往复式磁控溅射真空镀膜机，包括外机壳，外机壳具有中空的内腔，内腔中设置有磁控溅射机构以及与磁控溅射机构相配合的用于放置板材的移动机构，移动机构设置于磁控溅射机构的下端，且移动机构上具有上下分层且可横向移动的上移动板与下移动板，其中一块移动板与磁控溅射机构相配合用于加工时，另一块移动板用于板材的放置，外机壳的侧部设置有与移动机构相配合的可开合的移动门。本实用新型具有效率高的优点。

技术领域

本实用新型属于镀膜设备技术领域，涉及一种多加工台往复式磁控溅射真空镀膜机。

背景技术

真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发、磁控溅射、MBE分子束外延和PLD激光溅射沉积等很多种，主要思路是分成蒸发和溅射两种，需要镀膜的被成为基片，镀的材料被成为靶材，基片与靶材同在真空腔中，蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程(散点－岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜，对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。

现有的真空镀膜机大多都是单工位加工的，镀膜机在工作时，先将产品放置于加工台上，安装好之后再对产品进行镀膜加工，加工完成之后，对产品进行拆卸，随后安装上下一个产品，其存在工作效率低的问题。

实用新型内容

本实用新型的目的是针对上述问题，提供一种多加工台往复式磁控溅射真空镀膜机。

为达到上述目的，本实用新型采用了下列技术方案：

一种多加工台往复式磁控溅射真空镀膜机，包括外机壳，所述的外机壳具有中空的内腔，所述的内腔中设置有磁控溅射机构以及与磁控溅射机构相配合的用于放置板材的移动机构，所述的移动机构设置于磁控溅射机构的下端，且移动机构上具有上下分层且可横向移动的上移动板与下移动板，其中一块移动板与磁控溅射机构相配合用于加工时，另一块移动板用于板材的放置，所述外机壳的侧部设置有与移动机构相配合的可开合的移动门。

在上述的多加工台往复式磁控溅射真空镀膜机中，所述的移动机构包括设置于外机壳底端部的移动机架，所述移动机架的两侧设置有供上移动板以及下移动板导向移动的滑移槽，所述的移动机架上设置有驱动连接于上移动板以及下移动板上的驱动结构。

在上述的多加工台往复式磁控溅射真空镀膜机中，所述的驱动结构包括驱动器以及与驱动器驱动连接的链轮组件，所述的上移动板连接于链轮组件的上侧，所述的下移动板连接于链轮组件的下侧。

在上述的多加工台往复式磁控溅射真空镀膜机中，所述的链轮组件包括横向架设于移动机架上的传动链盘与从动链盘，所述的传动链盘设置于靠近驱动器一侧与驱动器连接，所述的从动链盘设置于移动机架远离驱动器的一侧，所述的传动链盘与从动链盘之间连接有链条。

在上述的多加工台往复式磁控溅射真空镀膜机中，每个所述的滑移槽内设置有用于辅助导向滑移的滑动结构。

在上述的多加工台往复式磁控溅射真空镀膜机中，所述的滑动结构包括设置于滑移槽内的若干个转动轮，若干个所述的转动轮沿滑移槽的长度方向分布且可相对滑移槽进行周向自转。

在上述的多加工台往复式磁控溅射真空镀膜机中，每个滑移槽内开设有向下凹陷用于容纳转动轮的轮槽，所述的转动轮与轮槽之间连接有转轴。

在上述的多加工台往复式磁控溅射真空镀膜机中，所述转动轮的直径大于轮槽的高度，转动轮的下端与轮槽的底部滚动接触，转动轮的上端位于轮槽外。