[实用新型]一种清洗装置和设备

说明书

本实用新型公开了一种清洗装置和设备，属于电子元件外壳清洗技术领域，为解决清洗不彻底，仍存有残留物，影响电子元件的成品质量等技术问题而设计。清洗装置包括通过管路依次连接成回路的水箱、电磁阀、清洗头和真空发生器，电磁阀能够控制水箱的清洗液流出，清洗头内设有第一水腔和与第一水腔相连通的第二水腔，清洗头还设有进水口、清洗口和出水口，进水口的一端通过管路与电磁阀相连通，另一端与第一水腔相连通，出水口的一端与第二水腔相连通，另一端通过管路与真空发生器相连通，清洗口分别与第一水腔和第二水腔相连通。该清洗装置和设备清洗较为彻底，不易存有残留物。

技术领域

本实用新型涉及电子元件外壳清洗技术领域，尤其涉及一种清洗装置和设备。

背景技术

随着社会的发展、人力成本的增加以及自动化行业的兴起，自动化设备的广泛应用已成为无可替代的趋势。一些电子元件经过多个工艺程序之后，其表明存在一些污染物，例如切削液、润滑油、机器冷却剂和金属碎片等。这些污染物对后续的成品质量有较大的影响，因此，对电子元件的表面进行清洗尤为重要。现有技术采用清洗水枪清洗电子元件的外壳表面，但清洗不彻底，仍存有残留物，影响电子元件的成品质量。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提出一种清洗装置和设备，该清洗装置和设备清洗较为彻底，不易存有残留物。

为达此目的，本实用新型采用以下技术方案：

一种清洗装置，包括通过管路依次连接成回路的水箱、电磁阀、清洗头和真空发生器，所述电磁阀能够控制所述水箱的清洗液流出，所述清洗头内设有第一水腔和与所述第一水腔相连通的第二水腔，所述清洗头还设有进水口、清洗口和出水口，所述进水口的一端通过所述管路与所述电磁阀相连通，另一端与所述第一水腔相连通，所述出水口的一端与所述第二水腔相连通，另一端通过所述管路与所述真空发生器相连通，所述清洗口分别与所述第一水腔和所述第二水腔相连通。

可选地，清洗装置还包括至少一个直线位移组件，所述直线位移组件包括滑轨和与所述滑轨配合连接的滑块，所述滑轨沿水平方向设置，所述滑块与所述清洗头相连接。

可选地，所述进水口设置为多个，多个所述进水口远离所述第一水腔的一端通过第一接头与所述电磁阀相连通。

可选地，所述出水口设置为多个，多个所述出水口远离所述第二水腔的一端通过第二接头与所述真空发生器相连通。

可选地，所述水箱设有第一液流口和第二液流口，所述第一液流口与所述真空发生器的出液端相连通，所述第二液流口与所述电磁阀的入阀口相连通。

可选地，清洗装置还包括安装座，所述清洗头的两侧固定设置在所述安装座的一端，所述安装座的另一端与所述滑块固定连接。

可选地，所述水箱内还设置有用于清洁所述清洗液循环过滤的过滤器，所述过滤器设置在所述第一液流口和第二液流口之间。

可选地，清洗装置还包括支撑座，所述清洗头、所述真空发生器和所述电磁阀均设置在所述支撑座上。

可选地，所述清洗头、所述真空发生器和所述电磁阀均通过螺栓连接在所述支撑座上。

一种清洗设备，包括多个所述清洗装置，用于同时清洗电子元件的多个表面。