[实用新型]一种设施栽培均衡灌溉设备

说明书

本实用新型公开了一种设施栽培均衡灌溉设备，属于农业设施栽培灌溉设备。所述的均衡灌溉设备包括PLC、灌溉设备、运行轨道、位置传感器、喷头、恒压输水管道，所述的运行轨道安装于栽培苗床上方，灌溉设备安装在运行轨道上，能够在运行轨道上移动，运行轨道两端安装有位置传感器，灌溉设备下方安装有恒压输水管道，恒压输水管道上均匀间隔布置有喷头，PLC控制输出端与灌溉设备控制输入端连接，位置传感器输出端与PLC输入端连接。可实现对设施栽培中栽培基质的充分浸湿、均匀浸湿和无损浸湿，使栽培作物根系生长良好，植株繁茂。

技术领域

本实用新型属于农业设施栽培灌溉设备，更具体的说涉及一种设施栽培均衡灌溉设备。

背景技术

在农业设施栽培中，都需要灌溉设备，用来对栽培在设施中的作物进行灌溉。现市面上销售的设施灌溉设备包括滴灌、喷灌、潮汐灌溉、弥雾灌溉等方式，但都不能实现栽培基质的充分浸湿（栽培基质中各个位置的基质在灌溉结束时都达到最大吸水量）、均匀浸湿（栽培基质中各个位置的基质同等程度浸湿）和无损浸湿（栽培基质中的养分在灌溉过程中不流失）。

发明内容

本实用新型可实现对设施栽培中栽培基质的充分浸湿、均匀浸湿和无损浸湿，使栽培作物根系生长良好，植株繁茂。

为了实现上述目的，本实用新型是通过以下技术方案实现的：所述的均衡灌溉设备11包括PLC1、灌溉设备11、运行轨道2、位置传感器3、喷头4、恒压输水管道5，所述的运行轨道2安装于栽培苗床上方，灌溉设备11安装在运行轨道2上，能够在运行轨道2上移动，运行轨道2两端安装有位置传感器3，灌溉设备11下方安装有恒压输水管道5，恒压输水管道5上均匀间隔布置有喷头4，PLC1控制输出端与灌溉设备11控制输入端连接，位置传感器3输出端与PLC1输入端连接。

优选的，所述的灌溉设备11包括变频电机6、支撑架7、滑轮8组成，所述的两组滑轮8之间通过支撑架7连接为一个整体，变频电机6安装于支撑架7上，变频电机6的输出转轴与滑轮8转动连接，所述PLC1的输出端与变频电机6控制端连接。

优选的，所述的设施栽培均衡灌溉设备11还包括时间继电器9和转向装置10，所述的时间继电器9与PLC1输入端连接，转向装置10一端与变频电机6连接，另一端与PLC1输出端连接。

本实用新型有益效果：

此设备通过循环往复的水雾喷淋灌溉，能克服滴灌灌溉不均匀、喷淋灌溉会损失基质养分、潮汐灌溉从底部吸水导致基质水分含量不均匀、弥雾灌溉不充分等现行灌溉方式的弊病，实现栽培基质的充分浸湿、均匀浸湿和无损浸湿（栽培基质中的养分在灌溉过程中不流失），且保持基质灌溉前后pH值和EC值的稳定。

附图说明

图1为本实用新型结构示意图；

图2为本实用新型控制框图；

图中、1-PLC、2-运行轨道、3-位置传感器、4-喷头、5-恒压输水管道、6-变频电机、7-支撑架、8-滑轮、9-时间继电器、10-转向装置、11-灌溉设备11。

具体实施方式

为了便于本领域一般技术人员理解和实现本实用新型，现结合附图及具体实施例进一步描述本实用新型的技术方案。

如图1-2所示，所述的均衡灌溉设备11包括PLC1、灌溉设备11、运行轨道2、位置传感器3、喷头4、恒压输水管道5，所述的运行轨道2安装于栽培苗床上方，灌溉设备11安装在运行轨道2上，能够在运行轨道2上移动，运行轨道2安装在苗床上方，悬挂住电机，并控制电机的运行路线。运行轨道2两端安装有位置传感器3，灌溉设备11下方安装有恒压输水管道5，恒压输水管道5上均匀间隔布置有喷头4，喷头4按苗床上放置的农作物行数来设置对应的数量、密度、出水口径。PLC1控制输出端与灌溉设备11控制输入端连接，位置传感器3输出端与PLC1输入端连接。位置传感器3记录灌溉设备11开始灌溉的起始位置、终止位置和转向位置。