[实用新型]晶圆雷射剥离作业总成系统有效

专利信息
申请号: 202022017422.3 申请日: 2020-09-15
公开(公告)号: CN212907667U 公开(公告)日: 2021-04-06
发明(设计)人: 刘大有;简志桦;赖建华;陈世勋 申请(专利权)人: 刘大有;赖建华;简志桦;陈世勋
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67
代理公司: 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 代理人: 朱丽华
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 雷射 剥离 作业 总成 系统
【权利要求书】:

1.一种晶圆雷射剥离作业总成系统,其特征在于,包括有:

一晶圆入口及一晶圆出口;

一雷射剥离模组,用以使晶圆与玻璃基板解键分离;

一玻璃移除模组,用以将解键后的玻璃基板自晶圆上移除;

一校准模组,用以检查晶圆的外观并辨识晶圆外周多余的部分;

一裁切模组,用以切除晶圆外周多余的部分;

一清洗模组,用以去除晶圆上经雷射剥离后的残胶;

一输送模组,其连接该晶圆入口及该晶圆出口,并连接上述各模组,以将晶圆自该晶圆入口收入,输送至上述各模组执行作业后,再自该晶圆出口送出。

2.根据权利要求1所述的晶圆雷射剥离作业总成系统,其特征在于,该玻璃移除模组连接一玻璃回收模组,用以回收移除后的玻璃基板。

3.根据权利要求1所述的晶圆雷射剥离作业总成系统,其特征在于,该雷射剥离模组连接一扫描模组,用以预先取得晶圆的高程资讯,该雷射剥离模组在进行剥离时依该晶圆的高程资讯调整焦距,以令雷射光的焦点总是位于该晶圆上。

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