[实用新型]一种等离子体增强化学气相沉积设备

权利要求书

1.一种等离子体增强化学气相沉积设备，其特征在于，包括抽真空机构、反应机构及移送机构，所述抽真空机构与所述反应机构相连通，所述移送机构将待处理产品送入或取出所述反应机构，所述反应机构包括反应腔室、电极组件及承载组件，所述电极组件设置在所述反应腔室的顶端并在所述反应腔室的内部移动，所述承载组件设置在所述反应腔室的底端并在所述反应腔室的内部移动，所述电极组件包括至少一个出气装置，所述出气装置从上往下依次包括呈中空状的弥散管和弥散球头，所述弥散管和所述弥散球头均设有若干个均匀分布的弥散孔，所述电极组件为导电材料，所述电极组件加设偏压电源。

2.根据权利要求1所述的一种等离子体增强化学气相沉积设备，其特征在于，所述弥散管上套设有密封盖板，所述密封盖板在工作时盖压待处理产品并使待处理产品内部真空度范围为1Pa-100Pa，反应腔室的真空度范围为0.1Pa-10Pa。

3.根据权利要求1所述的一种等离子体增强化学气相沉积设备，其特征在于，所述电极组件还包括第一升降机构、上电极板及进气通道，所述第一升降机构固定在所述反应腔室的顶端，所述上电极板固定在所述第一升降机构的升降轴上，所述上电极板与所述进气通道相连通，所述出气装置固定在所述上电极板的底端并与所述上电极板连通，所述上电极板与偏压负极连接。

4.根据权利要求3所述的一种等离子体增强化学气相沉积设备，其特征在于，所述上电极板开设有若干层弥散层，所述弥散层的宽度从上往下依次扩大，相邻两弥散层之间设有弥散板，所述弥散板上设有若干个弥散通口，且从上往下弥散板的弥散通口依次变细，且位于底端的弥散板上设有若干个出气装置。

5.根据权利要求1所述的一种等离子体增强化学气相沉积设备，其特征在于，所述承载组件包括第二升降机构、下电极板及定位件，所述第二升降机构固定在所述反应腔室的底端，所述下电极板固定在所述第二升降机构的升降轴上，所述定位件设于所述下电极板上，所述下电极板与偏压正极连接。

6.根据权利要求1所述的一种等离子体增强化学气相沉积设备，其特征在于，所述移送机构包括移送腔室、进片件、移送驱动装置及导向杆，所述移送驱动装置固定在所述移送腔室的腔壁上，所述导向杆固定设置在所述移送腔室的内部，所述进片件与所述移送驱动装置传动连接，所述进片件与所述导向杆滑动连接。

7.根据权利要求6所述的一种等离子体增强化学气相沉积设备，其特征在于，所述移送腔室的侧壁上固定设有定位监测装置。

8.根据权利要求1所述的一种等离子体增强化学气相沉积设备，其特征在于，所述抽真空机构包括干泵、罗茨泵，所述罗茨泵和反应腔室之间设有角阀和蝶阀。