[实用新型]光学镜头及微型投影系统有效
申请号: | 202022084787.8 | 申请日: | 2020-09-21 |
公开(公告)号: | CN212483905U | 公开(公告)日: | 2021-02-05 |
发明(设计)人: | 赵向仁;袁怀刚 | 申请(专利权)人: | 威海世高光电子有限公司 |
主分类号: | G02B1/11 | 分类号: | G02B1/11;G02B1/115;G02B5/00;G03B21/14 |
代理公司: | 威海汇英桥知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 37320 | 代理人: | 柳彦君 |
地址: | 264200 山东省威海市*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 镜头 微型 投影 系统 | ||
本实用新型揭示了一种光学镜头,包括若干堆叠设置的光学镜片,相邻所述光学镜片之间设置有空气间隔片,所述光学镜片和所述空气间隔片上分别设置有减反射膜。本实用新型还揭示了一种微型投影系统。本实用新型的优点包括通过在光学镜片以及空气间隔片上都镀上减反射膜,进一步降低了光学镜头的反射率,提高了光透效果,提高了光学镜头的精确性。
技术领域
本实用新型属于光学镜头技术领域,具体涉及一种光学镜头以及一种微型投影系统。
背景技术
微型投影镜头组内部空间狭小,光路结构复杂,对于杂光、鬼影等现象更加敏感,镜片反射率偏高后更加影响视觉效果,因此会在光学镜片上直接镀上减反射膜,来降低镜片的反射率,参考实用新型申请201910695027x,通过在光学镜片上镀上该实用新型申请中的减反射膜,可以将光学镜片在450nm~630nm范围内的反射率降至0.1%以下,对由于反射率高引起的杂光、鬼影、成像昏暗等问题进行了一定的有效控制。
但是用于微型投影的镜头,需要其反射率越低越好,因此,针对上述技术问题,为了更好更清晰的成像,有必要提供一种光学镜头,该光学镜头的制造方法以及一种微型投影系统,进一步降低光学镜头的其反射率。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种光学镜头,光学镜头的制造方法、一种光学镜头以及一种微型投影系统,以解决现有技术中的问题。
为了实现上述目的,本实用新型一实施例提供的技术方案如下:
一实施例中,提供了一种光学镜头,其特征在于,包括若干堆叠设置的光学镜片,相邻所述光学镜片之间设置有空气间隔片,所述光学镜片和所述空气间隔片上分别设置有减反射膜。
作为本实用新型的进一步改进,所述减反射膜包括若干交叠设置的低折射率膜层和高折射率膜层,所述高折射率膜层的折射率大于或等于1.8,所述低折射率膜层的折射率小于或等于1.5。
作为本实用新型的进一步改进,所述光学镜片与所述减反射膜之间,和/或,所述空气间隔片与所述减反射膜之间还设置有间接过渡层,所述间接过渡层的折射率大于所述低折射率膜层的折射率且小于所述高折射率膜层的折射率。
作为本实用新型的进一步改进,所述低折射率膜层的材料为氟化镁或二氧化硅,所述高折射率膜层的材料为五氧化二钽、二氧化钛或二氧化锆。
作为本实用新型的进一步改进,所述减反射膜包括交叠设置的第一高折射率膜层、第一低折射率膜层、第二高折射率膜层、第二低折射率膜层、第三高折射率膜层、第三低折射率膜层、第四高折射率膜层和第四低折射率膜层。
作为本实用新型的进一步改进,所述间接过渡层的材料为一氧化硅,所述间接过渡层的厚度为2nm~4nm;
作为本实用新型的进一步改进,所述减反射膜中:
所述第一高折射率膜层的厚度为5nm~8nm;
所述第一低折射率膜层的厚度为35nm~45nm;
所述第二高折射率膜层的厚度为20nm~25nm;
所述第二低折射率膜层的厚度为22nm~28nm;
所述第三高折射率膜层的厚度为40nm~48nm;
所述第三低折射率膜层的厚度为20nm~25nm;
所述第四高折射率膜层的厚度为25nm~30nm;
所述第四低折射率膜层的厚度为87nm~107nm。
作为本实用新型的进一步改进,所述间接过渡层的厚度为3nm;
作为本实用新型的进一步改进,所述减反射膜中:
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